WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015039705) MULTILAYER MIRROR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/039705    International Application No.:    PCT/EP2013/069689
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 23.09.2013
IPC:
G02B 5/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: GÖHNERMEIER, Aksel; (DE).
VON BLANCKENHAGEN, Gisela; (DE)
Agent: PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Postfach 10 40 36 70035 Stuttgart (DE)
Priority Data:
Title (EN) MULTILAYER MIRROR
(FR) MIROIR MULTICOUCHE
Abstract: front page image
(EN)A multilayer mirror for reflecting extreme ultraviolet (EUV) radiation, the mirror comprises a substrate and a stack of layers formed on the substrate. The stack of layers comprises layers comprising a low index material and a high index material, the low index material having a lower real part of the refractive index than the high index material at a given operating wavelength λ. The mirror provides a first peak of reflectivity of 20% or more at a first wavelength λ1 in a first wavelength band extending from 6 nm to 7 nm and a second peak of reflectivity of 20% or more at a second wavelength λ2 in a second wavelength band extending from 12.5 nm to 15 nm.
(FR)L'invention concerne un miroir multicouche destiné à réfléchir un rayonnement ultraviolet extrême (EUV), le miroir comprenant un substrat et un empilement de couches formé sur le substrat. L'empilement de couches comprend des couches comprenant un matériau à bas indice et un matériau à indice élevé, le matériau à bas indice ayant une partie réelle de l'indice de réfraction plus basse que le matériau à indice élevé à une longueur d'onde fonctionnelle λ donnée. Le miroir fournit un premier pic de réflectivité de 20 % ou plus à une première longueur d'onde λ1 dans une première bande de longueur d'onde s'étendant de 6 nm à 7 nm et un second pic de réflectivité de 20 % ou plus à une seconde longueur d'onde λ2 dans une seconde bande de longueur d'onde s'étendant de 12,5 nm à 15 nm.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)