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1. (WO2015037391) TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/037391    International Application No.:    PCT/JP2014/071472
Publication Date: 19.03.2015 International Filing Date: 15.08.2014
Chapter 2 Demand Filed:    28.05.2015    
IPC:
C25D 3/06 (2006.01)
Applicants: OKUNO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 4-7-10, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Inventors: NAKAJIMA, Katsuyuki; (JP).
NAGAMINE, Shingo; (JP).
KATAYAMA, Junichi; (JP)
Agent: SAEGUSA & PARTNERS; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Priority Data:
2013-189246 12.09.2013 JP
Title (EN) TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH
(FR) BAIN DE PLACAGE DE CHROME TRIVALENT
(JA) 3価クロムめっき浴
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a trivalent chromium plating bath which comprises an aqueous solution containing a trivalent chromium compound, a complexing agent, a fluoride, aluminum sulfate and a boric acid compound. According to the present invention, a novel trivalent chromium plating bath can be produced, which has a high coating film deposition rate, is suitable for thick plating, and has improved deposition performance in a low current density range and an improved deposition rate.
(FR)La présente invention concerne un bain de placage de chrome trivalent qui comprend une solution aqueuse contenant un composé de chrome trivalent, un agent complexant, un fluorure, du sulfate d'aluminium et un composé d'acide borique. Selon la présente invention, il est possible de produire un nouveau bain de placage de chrome trivalent qui présente une vitesse de dépôt de film de revêtement élevée, convient pour permettant un placage épais, et présente une meilleure performance de dépôt dans une plage de faible densité de courant et une meilleure vitesse de dépôt.
(JA) 本発明は、3価クロム化合物、錯化剤、フッ化物、硫酸アルミニウム及びホウ酸化合物を含有する水溶液からなる3価クロムめっき浴を提供するものである。本発明によればめっき皮膜の析出速度が速く、厚付けめっきに適した3価クロムめっき浴であって、低電流密度領域での析出性が向上し、更に、析出速度についても改善された新規な3価クロムめっき浴が得られる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)