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1. (WO2015037364) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING SAME, PATTERN FORMING METHOD USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/037364    International Application No.:    PCT/JP2014/070509
Publication Date: 19.03.2015 International Filing Date: 04.08.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: SHIBUYA Akinori; (JP).
KITAMURA Tetsu; (JP).
KATAOKA Shohei; (JP).
KOJIMA Masafumi; (JP).
GOTO Akiyoshi; (JP).
KATO Keita; (JP)
Agent: TAKAMATSU Takeshi; (JP)
Priority Data:
2013-188334 11.09.2013 JP
Title (EN) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING SAME, PATTERN FORMING METHOD USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE L'UTILISANT, PROCÉDÉ FORMANT MOTIF L'UTILISANT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、並びに、電子デバイス
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides: an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains (A) a compound that generates an acid represented by a specific general formula and having a nitrogen atom in each molecule by irradiation of active light or radiation and (B) a resin having a group that is decomposed by the action of an acid and generates a polar group, and which has excellent exposure latitude, excellent critical dimension uniformity (CDU) of a pattern within a plane of a wafer, and excellent pattern shape; a resist film and a pattern forming method, each of which uses the active light sensitive or radiation sensitive resin composition; a method for manufacturing an electronic device; and an electronic device.
(FR)La présente invention porte sur : une composition de résine sensible à une lumière active ou sensible à un rayonnement qui contient (A) un composé qui génère un acide représenté par une formule générale spécifique et ayant un atome d'azote dans chaque molécule par irradiation d'une lumière active ou d'un rayonnement et (B) une résine ayant un groupe qui est décomposé par l'action d'un acide et génère un groupe polaire, et qui présente une excellente latitude d'exposition, une excellente uniformité de dimension critique (CDU) d'un motif dans un plan d'une tranche, et une excellente forme de motif ; un film de réserve et un procédé formant motif, dont chacun utilise la composition de résine sensible à une lumière active ou sensible à un rayonnement ; et un procédé de fabrication de dispositif électronique ; et un dispositif électronique.
(JA)本発明は、(A)活性光線又は放射線の照射により分子内に窒素原子を有する特定一般式で表される酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により、露光ラチチュード、ウエア面内のパターン線幅均一性(CDU)、及びパターン形状に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、並びに、電子デバイスを提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)