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1. (WO2015037176) CONTAINER FOR STORING PHOTOMASK BLANKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/037176    International Application No.:    PCT/JP2014/003912
Publication Date: 19.03.2015 International Filing Date: 24.07.2014
IPC:
G03F 1/66 (2012.01), H01L 21/673 (2006.01)
Applicants: SHIN-ETSU POLYMER CO., LTD. [JP/JP]; 1-9, Kanda-Sudacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP).
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventors: SUZUKI, Tsutomu; (JP).
OHORI, Shinichi; (JP).
KOITABASHI, Ryuji; (JP).
NAKAGAWA, Hideo; (JP).
TAKASAKA, Takuro; (JP).
KINOSHITA, Takahiro; (JP).
FUKUDA, Hiroshi; (JP)
Agent: HASEGAWA, Hiroshi; (JP)
Priority Data:
2013-188177 11.09.2013 JP
Title (EN) CONTAINER FOR STORING PHOTOMASK BLANKS
(FR) RÉCIPIENT PERMETTANT DE CONSERVER DES ÉBAUCHES DE PHOTOMASQUES
(JA) フォトマスクブランクス基板収納容器
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to further reliably reduce the contamination of photomask blanks due to the adherence of the dust and particles generated during the storage, transportation, or operation of the container while suppressing the effect on a resist pattern, thereby improving the quality and yield of the photomask blanks. The present invention pertains to a container (1) for storing photomask blanks that stores, transports, or safeguards photomask blanks (2), wherein at least one of the components is constituted by a thermoplastic resin where the amount of caprolactam measured by the dynamic head space method when kept for 60 minutes at 40°C is 0.01 ppm or less n-decane conversion amount per resin weight, and the surface resistance value is no more than 1.0E + 13 ohms.
(FR)L'objet de la présente invention est de réduire de manière encore plus fiable la contamination d'ébauches de photomasques en raison de l'adhérence de la poussière et des particules générées pendant la conservation, le transport ou l'utilisation du récipient tout en supprimant l'effet sur un motif protecteur, améliorant ainsi la qualité et le rendement des ébauches de photomasques. La présente invention porte sur un récipient (1) permettant de conserver des ébauches de photomasques qui conserve, transporte ou préserve des ébauches (2) de photomasques, au moins un des composants étant constitué d'une résine thermoplastique où la quantité de caprolactame mesurée par la méthode d'espace de tête dynamique quand on la maintient pendant 60 minutes à 40 °C est inférieure ou égale à 0,01 ppm de la teneur de conversion de n-décane par poids de résine, et la valeur de résistance de surface n'est pas supérieure à 1,0 E + 13 ohms.
(JA)レジストパターンへの影響を抑えながら、保管、搬送あるいは容器操作中に発生しうる塵埃やパーティクルの付着によるフォトマスクブランクスの汚染をより確実に低減し、フォトマスクブランクスの品質および歩留まりを向上させる。本発明は、フォトマスクブランクス基板2を収納、搬送あるいは保管するフォトマスクブランクス基板収納容器1であって、その構成部品の少なくとも1つが、40℃で60分保持の下でダイナミックヘッドスペース法により測定されるカプロラクタム量がn-デカン換算で樹脂重量あたり0.01ppm以下となる熱可塑性樹脂から構成され、かつその表面抵抗値が1.0E+13オーム以下であるフォトマスクブランクス基板収納容器1に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)