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1. (WO2015036226) ILLUMINATION OPTICS AND ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/036226    International Application No.:    PCT/EP2014/067961
Publication Date: 19.03.2015 International Filing Date: 25.08.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 5/09 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: PATRA, Michael; (DE)
Agent: RAU, SCHNECK & HÜBNERPATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Priority Data:
10 2013 218 131.0 11.09.2013 DE
Title (DE) BELEUCHTUNGSOPTIK SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE
(EN) ILLUMINATION OPTICS AND ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY
(FR) OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION EUV
Abstract: front page image
(DE)Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes, in welchem ein Objektfeld (3) einer nachfolgenden abbildenden Optik (6) angeordnet ist. Im Objektfeld (3) ist wiederum ein in einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbares Objekt (5) anordenbar. Ein Facettenspiegel (14) der Beleuchtungsoptik hat eine Mehrzahl nebeneinander angeordneter Facetten (13) zur reflektierenden, überlagernden Führung von Teilbündeln (9i) eines Bündels von EUV-Beleuchtungslicht (9) zum Objektfeld (3). Der Facettenspiegel (14) ist so angeordnet, dass eine Lage der jeweiligen Facette (13) auf dem Facettenspiegel (14) und ein Beaufschlagungsbereich eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (9i) auf der jeweiligen Facette (13) des Facettenspiegels (14) eine Beleuchtungsrichtung für die Feldpunkte des Objektfeldes (3) vorgibt. Eine Randkontur des Beaufschlagungsbereiches des Beleuchtungslicht-Teilbündels (9i) auf der jeweiligen Facette (13) gibt eine Feldform des Objektfeldes (3) vor. Jede der Facetten (13) weist eine zusammenhängende statische Reflexionsfläche (15) auf. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der ein spekularer Reflektor mit im Vergleich zum Stand der Technik verringertem Herstellungsaufwand realisiert werden kann.
(EN)Illumination optics for EUV projection lithography serve to illuminate an illumination field in which an object field (3) of subsequent imaging optics (6) is arranged. An object (5) that can be displaced in an object displacement direction (y) can, in turn, be arranged in the object field (3). A faceted mirror (14) of the illumination optics has a plurality of adjacent facets (13) for the reflecting, superimposing guiding of sub-bundles (9i) of a bundle of EUV illumination light (9) to the object field (3). The faceted mirror (14) is arranged in such a way that the position of a facet (13) on the faceted mirror (14) and an impingement region for an illumination light sub-bundle (9i) on the facet (13) of the faceted mirror (14) defines an illumination direction for the field points of the object field (3). An edge contour of the impingement region for the illumination light sub-bundle (9i) on the facet (13) defines a field shape of the object field (3). Each of the facets (13) has a continuous static reflection surface (15). The result is illumination optics with which a specular reflector can be produced with less manufacturing effort compared to the prior art.
(FR)Optique d'éclairage pour la lithographie par projection EUV, servant à éclairer un champ dans lequel est disposé un champ d'objet (3) d'une optique de formation d'image (6) située en aval. Un objet (5) pouvant être déplacé dans un sens de déplacement d'objet (y) peut être placé dans le champ d'objet (3). Un miroir à facettes (14) de l'optique d'éclairage présente une pluralité de facettes (13) juxtaposées, servant à guider, de manière réfléchissante et en les superposant, des faisceaux partiels (9i) d'un faisceau de lumière d'éclairage EUV (9) vers le champ d'objet (3). Le miroir à facettes (14) est disposé de sorte qu'une position de la facette (13) respective sur le miroir à facettes (14) et une zone d'impact d'un faisceau partiel de lumière d'éclairage (9i) sur la facette (13) respective du miroir à facettes (14) prédéfinissent un sens d'éclairage pour les points du champ d'objet (3). Un contour de bord de la zone d'impact du faisceau partiel de lumière d'éclairage (9i) sur la facette (13) respective définit une forme du champ d'objet (3). Chacune des facettes (13) présente une surface réfléchissante (15) continue L'optique d'éclairage selon l'invention permet ainsi de réaliser un réflecteur spéculaire avec une complexité de fabrication réduite par rapport à l'état de la technique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)