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1. (WO2015035116) DYNAMIC ELECTRODE PLASMA SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/035116    International Application No.:    PCT/US2014/054207
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 05.09.2014
IPC:
H01L 21/265 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930 (US)
Inventors: BUONODONO, James P.; (US)
Agent: DAISAK, Daniel N.; (US)
Priority Data:
14/020,793 07.09.2013 US
Title (EN) DYNAMIC ELECTRODE PLASMA SYSTEM
(FR) SYSTÈME À PLASMA AVEC UNE ÉLECTRODE DYNAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)A system for processing a substrate includes a plasma chamber to generate a plasma therein. The system also includes a process chamber to house the substrate, where the process chamber is adjacent the plasma chamber. The system also includes a rotatable extraction electrode disposed between the plasma chamber and substrate, where the rotatable extraction electrode is configured to extract an ion beam from the plasma, and configured to scan the ion beam over the substrate without movement of the substrate by rotation about an extraction electrode axis.
(FR)L'invention concerne un système de traitement d'un substrat comprenant une chambre à plasma permettant de générer un plasma. Le système comporte également une chambre de processus permettant de loger le substrat, la chambre de processus étant adjacente à la chambre à plasma. Le système comprend également une électrode d'extraction pivotable disposée entre la chambre à plasma et le substrat, l'électrode d'extraction pivotable étant configurée pour extraire un faisceau d'ions à partir du plasma, et configurée pour balayer le faisceau d'ions sur le substrat sans mouvement du substrat, par rotation autour d'un axe d'électrode d'extraction.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)