WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015035040) ASYMMETRICAL DETECTOR DESIGN AND METHODOLOGY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/035040    International Application No.:    PCT/US2014/054083
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 04.09.2014
IPC:
H01J 37/26 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-TENCOR CORPORATION Legal Department One Technology Drive, Milpitas Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: GERLING, John; (US).
PLETTNER, Tomas; (US).
NASSER-GHODSI, Mehran; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US)
Priority Data:
61/874,834 06.09.2013 US
14/476,537 03.09.2014 US
Title (EN) ASYMMETRICAL DETECTOR DESIGN AND METHODOLOGY
(FR) MÉTHODOLOGIE ET CONCEPTION DE DÉTECTEUR ASYMÉTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)A charged particle detection device has an active portion for configured to produce a signal in response secondary charged particles emitted from a sample landing on the active portion. The active portion is shaped to accommodate an expected asymmetric pattern of the secondary charged particles at a detector. This abstract is provided to comply with rules requiring an abstract that will allow a searcher or other reader to quickly ascertain the subject matter of the technical disclosure. It is submitted with the understanding that it will not be used to interpret or limit the scope or meaning of the claims.
(FR)L'invention concerne un dispositif de détection de particules chargées qui comprend une partie active destinée à être configurée pour produire un signal en réponse à des particules chargées secondaires émises depuis un échantillon se trouvant sur la partie active. La partie active est formée de manière à pouvoir recevoir un motif asymétrique attendu des particules chargées secondaires au niveau d'un détecteur. Le présent abrégé est produit afin de respecter les règles requérant un abrégé qui permettra à une personne effectuant une recherche ou à autre lecteur de déterminer rapidement l'objet de la description technique. Cet abrégé est soumis à l'accord qu'il ne sera pas utilisé pour interpréter ni limiter la portée ou le sens des revendications.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)