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1. (WO2015034594) OPAQUE COLOR STACK FOR ELECTRONIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/034594    International Application No.:    PCT/US2014/048666
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 29.07.2014
IPC:
G06F 3/044 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G02B 26/00 (2006.01), B05D 5/06 (2006.01), C03C 17/36 (2006.01), G02B 1/11 (2015.01)
Applicants: APPLE INC. [US/US]; One Infinite Loop Cupertino, California 95014 (US)
Inventors: MATSUYUKI, Naoto; (JP).
WEBER, Douglas J.; (US)
Agent: HEMENWAY, S. Craig; (US)
Priority Data:
14/019,526 05.09.2013 US
Title (EN) OPAQUE COLOR STACK FOR ELECTRONIC DEVICE
(FR) EMPILEMENT DE COULEUR OPAQUE POUR DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract: front page image
(EN)An opaque cover for a capacitive sensor is provided. The cover includes a transparent substrate (202) and a black color stack disposed adjacent the transparent substrate. The black color stack includes a pigment stack having a first dielectric layer (204A), a second dielectric layer (204C), and a first light absorbing layer (204B positioned between the first and second dielectric layers. The light absorbing layer is one of tin, copper oxide or zinc oxide. The first dielectric layer (204A) has a first refractive index, is one of silicon oxide, silicon nitride or niobium oxide. The second dielectric layer, is one of silicon oxide, silicon nitride or niobium oxide, has a second refractive index different from the first refractive index. The black color stack also includes a plurality of second light absorption layers (204B) interleaved with a plurality of third dielectric layers (204A).
(FR)La présente invention concerne un couvercle opaque pour capteur capacitif. Le couvercle comprend un substrat transparent (202) et un empilement de couleur noire disposé adjacent au substrat transparent. L'empilement de couleur noire comprend un empilement pigmenté comprenant une première couche diélectrique (204A), une deuxième couche diélectrique (204C), et une première couche absorbant la lumière (204B) positionnée entre les première et deuxième couches diélectriques. La couche absorbant la lumière est faite d'un élément parmi étain, oxyde de cuivre et oxyde de zinc. La première couche diélectrique (204A) possède un premier indice de réfraction, et est faite d'un élément parmi oxyde de silicium, nitrure de silicium et oxyde de niobium. La deuxième couche diélectrique est faite d'un élément parmi oxyde de silicium, nitrure de silicium et oxyde de niobium, et possède un deuxième indice de réfraction différent du premier indice de réfraction. L'empilement de couleur noire comprend également une pluralité de deuxièmes couches d'absorption de lumière (204B) entre lesquelles sont intercalées une pluralité de troisièmes couches diélectriques (204A).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)