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1. (WO2015034095) PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR TOUCH PANEL USING SAID METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/034095    International Application No.:    PCT/JP2014/073739
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 09.09.2014
IPC:
C23C 14/04 (2006.01)
Applicants: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventors: MIZUMURA, Michinobu; (JP)
Agent: OGAWA, Moriaki; (JP)
Priority Data:
2013-186256 09.09.2013 JP
Title (EN) PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR TOUCH PANEL USING SAID METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉCRAN TACTILE À L'AIDE DUDIT PROCÉDÉ
(JA) パターン形成方法及びこの方法を用いたタッチパネルの製造方法
Abstract: front page image
(EN)A pattern forming method is characterized in that a single pattern is formed by forming films by sputtering a plurality of times (S3, S5) using a plurality of masks for sputtering having opening patterns, which are segments of a pattern to be formed on a target article surface, and combining the patterns that are formed as films by the plurality of masks for sputtering. Exposure processes and development processes become unnecessary because of direct sputtering film formation of the patterns on the target article surface. Moreover, because the pattern formed on the target article surface is segmented, deformation and offsetting of masks for sputtering do not easily occur.
(FR)Un procédé de formation d'un motif est caractérisé en ce qu'un seul motif est formé en formant des films au moyen d'une pluralité de pulvérisations (S3, S5) à l'aide d'une pluralité de masques de pulvérisation à motifs d'ouverture, qui sont des segments d'un motif devant être formé sur une surface d'un article cible, puis en combinant les motifs qui sont formés sous forme de films par la pluralité de masques de pulvérisation. Les processus d'exposition et de développement deviennent superflus en raison de la formation par pulvérisation directe des films des motifs sur la surface de l'article cible. De plus, puisque le motif formé sur la surface de l'article cible est segmenté, une déformation et un décalage de masques de pulvérisation apparaissent rarement.
(JA) パターン形成方法は、対象物面上に形成するパターンを分割した開口パターンを有する複数のスパッタ用マスクを用いて、複数回スパッタ成膜し(S3,S5)、複数のスパッタ用マスクでそれぞれ成膜したパターンを合成して単一のパターンを形成することを特徴とする。対象物面上にパターンを直接スパッタ成膜することで、露光工程と現像工程が不要になる。しかも、対象物面上に形成するパターンを分割することで、スパッタ用マスクの変形やずれ等が生じにくい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)