WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015033880) RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/033880    International Application No.:    PCT/JP2014/072872
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 01.09.2014
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08G 59/02 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: YAMADA Satoru; (JP).
MASAKI Yoshihisa; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2013-183067 04.09.2013 JP
Title (EN) RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DURCI, FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE
(JA) 樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a resin composition which has good solvent resistance and high voltage retention rate, while maintaining high sensitivity; a method for producing a cured film using this resin composition; a cured film; a liquid crystal display device; and an organic EL display device. A resin composition which contains (A-1) a polymer component containing one or more polymers satisfying (1) and/or (2) described below, (B-1) a photoacid generator and (C-1) a solvent. This resin composition has an epichlorohydrin content of 10 ppm or less. (1) a polymer having (a1-1) a constituent unit having a group wherein an acid group is protected by an acid-decomposable group and (a1-2) a constituent unit having an epoxy group (2) a polymer having the constituent unit (a1-1) and a polymer having the constituent unit (a1-2)
(FR)L'invention concerne: une composition de résine qui présente une bonne résistance aux solvants et un taux élevé de maintien de tension, tout en conservant une sensibilité élevée; un procédé de production d'un film durci utilisant cette composition de résine; un film durci; un dispositif d'affichage à cristaux liquides et un dispositif d'affichage EL organique. Une composition de résine qui contient (A-1) un composant polymère contenant un polymère appartenant à la catégorie de (1) et/ou (2) décrits ci-dessous, (B-1) un générateur de photo-acide et (C-1) un solvant. Cette composition de résine est caractérisée par une teneur en épichlorohydrine inférieure ou égale à 10 ppm. (1) un polymère comprenant (a1-1) une unité constitutive possédant un groupe où un groupe acide est protégé par un groupe décomposable par les acides et (a1-2) une unité constitutive possédant un groupe époxy (2) un polymère comprenant l'unité constitutive (a1-1) et un polymère comprenant l'unité constitutive (a1-2)
(JA) 高い感度を維持しつつ、耐溶剤性が良好であり、電圧保持率が高い樹脂組成物、これを用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置の提供。 (A-1)下記(1)および(2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む重合体成分、(1)(a1-1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位、および(a1-2)エポキシ基を有する構成単位を有する重合体、または(2)前記構成単位(a1-1)を有する重合体および前記構成単位(a1-2)を有する重合体、(B-1)光酸発生剤、(C-1)溶剤を含有し、エピクロロヒドリンの含有量が10ppm以下である、樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)