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1. (WO2015033850) GAS BARRIER FILM LAMINATE AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/033850 International Application No.: PCT/JP2014/072573
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 28.08.2014
IPC:
B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C23C 16/40 (2006.01) ,C23C 16/42 (2006.01)
Applicants: JNC CORPORATION[JP/JP]; 2-1, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008105, JP
Inventors: HASHIMOTO, Masashi; JP
FUJITA, Atsuko; JP
KUNINOBU,Takafumi; JP
Agent: MIYAGAWA, Teiji; JP
Priority Data:
2013-18261003.09.2013JP
Title (EN) GAS BARRIER FILM LAMINATE AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME
(FR) STRATIFIÉ À FILM BARRIÈRE AUX GAZ, ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE METTANT EN ŒUVRE CELUI-CI
(JA) ガスバリアフィルム積層体とそれを用いた電子部品
Abstract: front page image
(EN) The present invention is capable of relaxing residual stress and reducing curling, while maintaining flexibility during the formation of a gas barrier film by a plasma CVD method, and enables achievement of a gas barrier film laminate that has sufficient gas barrier properties. A gas barrier film laminate according to the present invention is provided with: a resin film (11) that serves as a base; and at least one organic film layer (12) and at least one gas barrier film layer (13), that are arranged on at least one surface of the resin film (11). The gas barrier film layer (13) is a film which is formed by a plasma CVD method and which is mainly composed of a metal oxide, while containing an organic component.
(FR) Selon l'invention, par formation d'une membrane barrière aux gaz au moyen d'un dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, il est possible d'obtenir un stratifié à film barrière aux gaz dont les propriétés de flexibilité sont préservées, la contrainte résiduelle est atténuée et l'ondulation est réduite, et qui simultanément possède des propriétés de barrière aux gaz suffisantes. Le stratifié à film barrière aux gaz de l'invention, est équipé : d'un film de résine (11) servant de matériau de base ; et sur au moins une face du film de résine (11), d'au moins une couche de membrane organique (12), et d'au moins une couche de membrane de barrière aux gaz (13). La couche de membrane de barrière aux gaz (13) consiste en une membrane fabriquée par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, ayant un oxyde métallique pour composant principal, et comprenant un composant organique.
(JA)  本願発明は、プラズマCVD法によるガスバリア膜の形成において、可撓性を保持しつつ残留応力を緩和しカールを低減させるとともに、十分なガスバリア性を有するガスバリアフィルム積層体を得ることができる。本願のガスバリアフィルム積層体は、基材となる樹脂フィルム11と;樹脂フィルム11の少なくとも片面に、少なくとも一つの有機膜層12と少なくとも一つのガスバリア膜層13を備える。ガスバリア膜層13は、プラズマCVD法により製膜された、金属酸化物を主成分とする、有機成分を含有する膜である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)