WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015033713) FILM-FORMATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/033713    International Application No.:    PCT/JP2014/070328
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 01.08.2014
IPC:
C23C 14/30 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01)
Applicants: MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventors: ADACHI, Naoya; (JP).
YAMANE, Shigeki; (JP)
Agent: FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2013-183733 05.09.2013 JP
Title (EN) FILM-FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abstract: front page image
(EN)A film-formation device (1) is provided with: a hearth (25) provided with a material-receiving part (26); a beam controller (31) provided with a beam source (32) for irradiating a film-formation material (12) with an electron beam (34), and a control unit (33) which measures and integrates the amount of beam current flowing in the beam source (32) per unit time to calculate a beam-current-amount integrated value since irradiation of the film-formation material with the electron beam (34) began; a film-formation-material replenishment amount calculation unit (42) into which a corresponding relationship between a film-formation-material consumption amount and the beam-current-amount integrated value until a time at which a prescribed film thickness is obtained is inputted in advance, and which calculates the film-formation-material consumption amount from the beam-current-amount integrated value calculated by the control unit (33), and calculates a corresponding film-formation-material replenishment amount; a film-formation-material supply unit (9) which supplies the film-formation material (12) to the material-receiving part (26); a film-formation-material supply amount measurement unit (18) for measuring the film-formation-material supply amount; and a controller (43).
(FR)Un dispositif de formation de film (1) comprend : un creuset (25) pourvu d'une partie de réception de matériau (26) ; un dispositif de commande de faisceau (31) pourvu d'une source de faisceau (32) permettant d'exposer un matériau de formation de film (12) à un faisceau d'électrons (34), ainsi que d'une unité de commande (33) qui mesure et intègre la quantité de courant de faisceau circulant dans la source de faisceau (32) par unité de temps de façon à calculer une valeur intégrée de quantité de courant de faisceau à partir du début de l'exposition du matériau de formation de film au faisceau d'électrons (34) ; une unité de calcul de quantité de réapprovisionnement en matériau de formation de film (42) dans laquelle une relation de correspondance entre une quantité de consommation de matériau de formation de film et la valeur intégrée de quantité de courant de faisceau jusqu'à un moment auquel une épaisseur de film prescrite est obtenue est entrée à l'avance, et qui calcule la quantité de consommation de matériau de formation de film à partir de la valeur intégrée de quantité de courant de faisceau calculée par l'unité de commande (33), et qui calcule également une quantité de réapprovisionnement en matériau de formation de film correspondante ; une unité d'alimentation en matériau de formation de film (9) qui alimente en matériau de formation de film (12) la partie de réception de matériau (26) ; une unité de mesure de quantité d'alimentation en matériau de formation de film (18) destinée à mesurer la quantité d'alimentation en matériau de formation de film ; et un dispositif de commande (43).
(JA) 成膜装置(1)は、材料受け部(26)を有するハース(25)と、成膜材料(12)に電子ビーム(34)を照射するビーム源(32)と、ビーム源(32)に流れる単位時間当たりのビーム電流量を計測および積算して、成膜材料への電子ビーム(34)の照射が開始されてからのビーム電流量積算値を算出する制御部(33)と、を有するビームコントローラ(31)と、所定の膜厚となる時間までのビーム電流量積算値と、成膜材料消費量との対応関係が予め入力されており、制御部(33)により算出されたビーム電流量積算値から成膜材料消費量を算出し、対応する成膜材料補給量を算出する成膜材料補給量算出部(42)と、材料受け部(26)に成膜材料(12)を供給する成膜材料供給部(9)と、成膜材料供給量を計測する成膜材料供給量計測部(18)と、コントローラ(43)と、を有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)