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1. (WO2015033684) SENSOR DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND INPUT DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/033684    International Application No.:    PCT/JP2014/069383
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 23.07.2014
IPC:
G06F 3/041 (2006.01)
Applicants: SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
Inventors: NISHIMURA, Taizo; (JP).
IIDA, Fumihiko; (JP).
MIZUNO, Hiroshi; (JP).
ABE, Yasuyuki; (JP).
TANAKA, Takayuki; (JP).
HASEGAWA, Hayato; (JP).
SHINKAI, Shogo; (JP)
Agent: TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 3F, Sawada Building, 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2013-182509 03.09.2013 JP
Title (EN) SENSOR DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND INPUT DEVICE
(FR) DISPOSITIF CAPTEUR, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'ENTRÉE
(JA) センサ装置、表示装置および入力装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a sensor device, comprising: a sensor layer which is positioned in a location which faces a surface of a substrate having a manipulation surface which is on the opposite side from the manipulation surface, and which detects either a contact location or an indentation location upon the manipulation surface; and an interstitial layer which is located in an interstice between the substrate and the sensor layer. The interstitial layer further comprises: a bonding region which bonds to both the substrate and the sensor layer; and a mitigation layer which mitigates stress from the substrate which propagates to the sensor layer.
(FR)L'invention concerne un dispositif capteur, comprenant : une couche de capteurs qui est positionnée à un emplacement qui fait face à une surface d'un substrat ayant une surface de manipulation qui est située du côté opposé à la surface de manipulation, et qui détecte un emplacement de contact ou un emplacement d'enfoncement sur la surface de manipulation ; et une couche interstitielle qui est située dans un interstice entre le substrat et la couche de capteurs. La couche interstitielle comprend en outre : une région de liaison qui se relie au substrat et à la couche de capteurs ; et une couche d'atténuation qui atténue la contrainte en provenance du substrat qui se propage jusqu'à la couche de capteurs.
(JA) センサ装置は、操作面を有する基板の、操作面とは反対側の面と対向する位置に配置され、操作面への接触位置もしくは押込位置を検出するセンサ層と、基板とセンサ層との間隙に位置する間隙層とを備えている。間隙層は、基板とセンサ層とを互いに貼り合わせる貼合領域と、基板からの応力がセンサ層に及ぶのを緩和する緩和領域とを有している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)