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1. (WO2015033535) FLUID APPLICATION SYSTEM AND FLUID APPLICATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/033535    International Application No.:    PCT/JP2014/004390
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 27.08.2014
IPC:
B05C 11/10 (2006.01), B05C 5/00 (2006.01), B05D 1/26 (2006.01), B05D 3/00 (2006.01)
Applicants: HEISHIN LTD. [JP/JP]; 1-54, Misakihommachi 1-chome, Hyogo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6520852 (JP)
Inventors: MORI, Masaki; (JP).
SUGINO, Yoshihiro; (JP).
WAKIZAKA, Hideaki; (JP)
Agent: ASCEND IP LAW FIRM; 17-23, Higashinaniwa-cho 5-chome, Amagasaki-shi, Hyogo 6600892 (JP)
Priority Data:
2013-185917 09.09.2013 JP
Title (EN) FLUID APPLICATION SYSTEM AND FLUID APPLICATION METHOD
(FR) SYSTÈME D'APPLICATION DE FLUIDE ET PROCÉDÉ D'APPLICATION DE FLUIDE
(JA) 流体塗布システムおよび流体塗布方法
Abstract: front page image
(EN)A fluid application system (10) is provided with: an application device (20) that discharges a fluid onto a workpiece; a transfer device (30) that transfers the application device (20) and the workpiece relative to each other; and a control device (11) that controls the application device (20). When the amount of fluid discharged from a nozzle (23) is varied by a target variation (F1) by adjusting an output for a mechanical power source (22), the control device (11) sets the output of the mechanical power source (22) to a value that temporarily exceeds a theoretical output (N1) for the mechanical power source (22) found from the target variation (F1) for the amount of discharge such that the variation in internal pressure of the nozzle (23) is an amount (P1) that should be varied in the internal pressure of the nozzle (23) found from the target variation (F1) for the amount of discharge, and thereafter sets the same to the theoretical output (N1). Thus, when the amount of discharge of the fluid from the nozzle (23) per unit time is varied, response delay in the amount of discharge can be suppressed.
(FR)L'invention porte sur un système (10) d'application de fluide pourvu de : un dispositif d'application (20) qui fait sortir un fluide sur une pièce ; un dispositif de transfert (30) qui déplace le dispositif d'application (20) et la pièce l'un par rapport à l'autre ; et un dispositif de commande (11) qui commande le dispositif d'application (20). Lorsque la quantité de fluide sortant d'une buse (23) est amenée à varier d'une variation cible (F1) par réglage d'une puissance pour une source d'énergie mécanique (22), le dispositif de commande (11) règle la puissance de la source d'énergie mécanique (22) à une valeur qui dépasse temporairement une puissance théorique (N1) pour la source d'énergie mécanique (22) trouvée d'après la variation cible (F1) pour la quantité sortante de façon à ce que la variation de pression interne de la buse (23) soit une quantité (P1) qui devrait être amenée à varier en la pression interne de la buse (23) trouvée d'après la variation cible (F1) pour la quantité sortante et par la suite il règle celle-ci à la puissance théorique (N1). Ainsi, lorsque la quantité de fluide sortant de la buse (23) par unité de temps est amenée à varier, un retard de réponse sur la quantité sortante peut être supprimé.
(JA) 流体塗布システム(10)は、ワークピースに流体を吐出する塗布装置(20)と、その塗布装置(20)とワークピースとを相対的に移動させる移動装置(30)と、塗布装置(20)を制御する制御装置(11)と、を備える。制御装置(11)は、動力源(22)の出力を調整することによりノズル(23)からの流体の吐出量を目標変動量(F1)だけ変動させる際、ノズル(23)の内圧力の変化量が、吐出量の目標変動量(F1)から求まるノズル(23)の内圧力の変化すべき量(P1)となるように、動力源(22)の出力を、吐出量の目標変動量(F1)から求まる動力源(22)の理論上の出力(N1)を一旦超える値とし、その後に理論上の出力(N1)とする。これにより、ノズル(23)からの単位時間当たりの流体の吐出量を変動させる際に吐出量の応答遅れを抑制することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)