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1. (WO2015032266) REFLECTION-TYPE LIGHT-SPLITTING GRATING AND INTERFERENCE PHOTOETCHING SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/032266 International Application No.: PCT/CN2014/084232
Publication Date: 12.03.2015 International Filing Date: 13.08.2014
IPC:
G02B 5/18 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ZHANGJIAGANG INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGIES, SOOCHOW UNIVERSITY[CN/CN]; No.10 Changjing Road, Zhangjiagang Suzhou, Jiangsu 215600, CN
Inventors: HU, Jin; CN
PU, Donglin; CN
CHEN, Linsen; CN
Agent: UNITALEN ATTORNEYS AT LAW; 7th Floor, Scitech Place No.22, Jian Guo Men Wai Ave., Chao Yang District Beijing 100004, CN
Priority Data:
201310395380.903.09.2013CN
Title (EN) REFLECTION-TYPE LIGHT-SPLITTING GRATING AND INTERFERENCE PHOTOETCHING SYSTEM
(FR) RÉSEAU DE DIVISION DE LUMIÈRE DU TYPE RÉFLEXION ET SYSTÈME DE PHOTOGRAVURE À INTERFÉRENCE
(ZH) 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统
Abstract: front page image
(EN) A reflection-type light-splitting grating and an interference photoetching system. The reflection-type light-splitting grating (1) comprises a grating groove-shaped region (11) located on a reflection plane (10) and a light blocking region (12) located on the periphery of the grating groove-shaped region (11), wherein the grating groove-shape region (11) comprises a grating structure (110) periodically distributed. The grating structure (110) is provided with a groove-shaped reflection plane (111) and a non-reflection region (112), and an oblique angle is formed between the groove-shaped reflection plane (111) and a grating basal plane. The reflection-type light-splitting grating (1) can realize the maximum modulation on light of ± 1 level, so that the beam splitting light reflected out has the highest energy utilization rate. An interference pattern obtained via the reflection-type light-splitting grating (1) has good boundary quality, so that precise pattern splicing can be conducted, thereby promoting the large-breadth interference photoetching technique.
(FR) La présente invention concerne un réseau de division de lumière du type réflexion et un système de photogravure à interférence. Le réseau de division de lumière du type réflexion (1) comprend une région en forme de rainure (11) du réseau située sur un plan de réflexion (10) et une région de blocage de lumière (12) située à la périphérie de la région en forme de rainure (11) du réseau, la région en forme de rainure (11) du réseau comprenant une structure de réseau (110) à distribution périodique. La structure de réseau (110) est dotée d'un plan de réflexion en forme de rainure (111) et d'une région non réfléchissante (112), et un angle oblique est formé entre le plan de réflexion en forme de rainure (111) et un plan de base du réseau. Le réseau de division de lumière du type réflexion (1) peut réaliser la modulation maximale sur la lumière de ± 1 niveau, de sorte que la lumière de division de faisceau réfléchie possède le taux d'utilisation énergétique le plus élevé. Un motif d'interférence obtenue au moyen du réseau de division de lumière (1) du type réflexion possède une bonne qualité de bordures, de sorte qu'un épissage de motifs précis puisse être mené, ce qui favorise la technique de photogravure à interférence de grande largeur.
(ZH) 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统,该反射式分光光栅(1)包括位于反射面(10)的光栅槽形区(11)和位于该光栅槽形区(11)外围的阻光区(12),所述光栅槽形区(11)包括周期性分布的光栅结构(110),该光栅结构(110)具有槽形反射面(111)和非反射区(112),所述槽形反射面(111)与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅(1)能够实现对±1级光的最大调制,使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率,通过该反射式分光光栅(1)获得的干涉图形,具有良好的边界质量,能够进行精密的图形拼接,使得大幅面干涉光刻技术得到提升。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)