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1. (WO2015029777) PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MONITORING PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/029777    International Application No.:    PCT/JP2014/071322
Publication Date: 05.03.2015 International Filing Date: 12.08.2014
IPC:
C23C 16/509 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H05H 1/00 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522 (JP)
Inventors: ORIMOTO, Masahiko; (JP).
SHOJI, Atsushi; (JP)
Agent: KOHNO, Hideto; (JP)
Priority Data:
2013-177104 28.08.2013 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MONITORING PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT À PLASMA ET PROCÉDÉ DE CONTRÔLE DE DISPOSITIF DE TRAITEMENT À PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の監視方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a plasma processing device and a method for monitoring the plasma processing device that can detect abnormalities in the process of plasma processing and output an alarm. The plasma processing device, which is provided with a processing vessel, a gas supply means for supplying gas inside the processing vessel, a first electrode provided inside the processing vessel and mounted on a substrate to be processed, and a second electrode facing the first electrode, and in which plasma processing is carried out on the substrate to be processed by applying a high-frequency voltage to the first and second electrodes and generating plasma within the processing vessel to which gas has been supplied, is provided with: a recording means for time-oriented recording of values showing the characteristics of the plasma processing carried out on the substrate to be processed; a means for identifying a time-oriented change trend for values recorded in the recording means; a determination means for determining whether or not an alarm is required on the basis of the time-oriented change trend identified; and an alarm means that outputs an alarm when an alarm is determined to be required.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement à plasma et un procédé pour contrôler le dispositif de traitement à plasma qui peut détecter des anomalies dans le processus de traitement à plasma et émettre une alarme. Le dispositif de traitement à plasma, qui est pourvu d’une cuve de traitement, d’un moyen d’alimentation en gaz pour alimenter du gaz à l’intérieur de la cuve de traitement, d’une première électrode disposée à l’intérieur de la cuve de traitement et installée sur un substrat à traiter, et d’une deuxième électrode faisant face à la première électrode, et dans lequel le traitement à plasma est conduit sur le substrat à traiter par application d’une tension à haute fréquence aux première et deuxième électrodes et génération d’un plasma dans la cuve de traitement dans lequel le gaz a été alimenté, comprend : un moyen d’enregistrement pour l’enregistrement en fonction du temps de valeurs représentant les caractéristiques du traitement à plasma conduit sur le substrat à traiter ; un moyen pour identifier une tendance de changement en fonction du temps pour des valeurs enregistrées dans le moyen d’enregistrement ; un moyen de détermination pour déterminer si une alarme est ou non requise sur la base de la tendance de changement en fonction du temps identifié ; et un moyen d’alarme qui émet une alarme lorsqu’il est déterminé qu’une alarme est requise.
(JA) プラズマ処理の処理工程において異常を検知し、警報を出力することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の監視方法の提供。 処理容器、処理容器内にガスを供給するガス供給手段、記処理容器内に設けられ、被処理基板を載置する第1電極、及び第1電極に対向する第2電極を備え、第1及び第2電極間に高周波電圧を印加することにより、ガスを供給した処理容器内でプラズマを発生させて被処理基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、被処理基板に対して施したプラズマ処理の特性を示す値を時系列的に記録する記録手段と、記録手段が記録した値の経時変化傾向を特定する手段と、特定した経時変化傾向に基づき、警報の要否を判定する判定手段と、警報を要と判定した場合、警報を出力する警報手段とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)