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1. (WO2015029264) REACTIVE SPUTTERING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/029264    International Application No.:    PCT/JP2013/076974
Publication Date: 05.03.2015 International Filing Date: 03.10.2013
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventors: TAKEI, Masaki; (JP).
ISOBE, Tatsunori; (JP).
KIYOTA, Junya; (JP).
OHNO, Tetsuhiro; (JP).
SATO, Shigemitsu; (JP)
Agent: ONDA, Makoto; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
Priority Data:
2013-178469 29.08.2013 JP
Title (EN) REACTIVE SPUTTERING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION RÉACTIVE
(JA) 反応性スパッタ装置
Abstract: front page image
(EN)This reactive sputtering device comprises a cathode device (18) that emits sputtering particles to a compound film formation region (R1). The cathode device (18) includes: a scanning unit (27) that scans an erosion region in an opposing region (R2); and a target (23) in which the erosion region is formed, and that has a length, in the scanning direction, that is shorter than that of the opposing region (R2). The scanning unit (27) scans the erosion region toward the opposing region (R2) from a starting position (St) where the distance (D1) between a first end (Re1), of the two ends of the formation region (R1) in the scanning direction, at which the sputtering particles arrive first and a first end (23e1) of the target (23) closer to the first end (Re1) of the formation region in the scanning direction is 150 mm or greater in the scanning direction.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de pulvérisation réactive comprenant un dispositif cathodique (18) qui émet des particules de pulvérisation sur une région (R1) de formation de pellicule de composé. Le dispositif cathodique (18) comprend : une unité de balayage (27) qui balaye une région d'érosion dans une région (R2) en regard ; et une cible (23) dans laquelle est formée ladite région d'érosion, et ayant une longueur, dans la direction de balayage, qui est inférieure à celle de la région (R2) en regard. L'unité de balayage (27) balaye la région d'érosion en direction la région (R2) en regard à partir d'une position (St) de départ, la distance (D1) entre une première extrémité (Re1), des deux extrémités de la région de formation (R1) dans la direction de balayage, sur laquelle arrivent en premier les particules de pulvérisation, et une première extrémité (23e1) de la cible (23) qui est plus proche de la première extrémité (Re1) de la région de formation dans la direction de balayage, étant supérieure ou égale à 150 mm dans la direction de balayage.
(JA)反応性スパッタ装置は、化合物膜の形成領域(R1)にスパッタ粒子を放出するカソード装置(18)を備える。カソード装置(18)は、エロージョン領域を対向領域(R2)で走査する走査部(27)と、エロージョン領域が形成され、走査方向における長さが対向領域(R2)よりも短いターゲット(23)とを備える。走査部(27)は、走査方向での形成領域(R1)の2つの端部のうち、スパッタ粒子が先に到達する第1端部(Re1)と、走査方向にて形成領域の第1端部(Re1)に近いターゲット(23)の第1端部(23e1)との距離(D1)が、走査方向にて150mm以上である開始位置(St)から対向領域(R2)に向けてエロージョン領域を走査する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)