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1. (WO2015029200) CHARGED PARTICLE BEAM LENS MODULE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/029200    International Application No.:    PCT/JP2013/073242
Publication Date: 05.03.2015 International Filing Date: 30.08.2013
IPC:
H01J 37/12 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/21 (2006.01)
Applicants: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventors: TAMAKI, Hirokazu; (JP).
HARADA, Ken; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM LENS MODULE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH SAME
(FR) MODULE DE LENTILLE POUR FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES ET DISPOSITIF DE FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES ÉQUIPÉ DE CELUI-CI
(JA) 荷電粒子線レンズモジュール及びそれを備えた荷電粒子線装置
Abstract: front page image
(EN)To provide an adjustment means for an optical system in a charged particle beam device, the present invention provides the following constitution: a lens module characterized by having an electrostatic-type lens for charged particle beams and at least two stages of deflectors, the lens module being placeable in an optical system for a charged particle beam device using charged particles which have traversed a sample for imaging; or a charged particle beam device equipped with the same. The electrostatic-type lens for charged particle beams is provided in an optical system of imaging lenses for imaging an image of the sample with the charged particle beam, and the amount of defocusing for the image of the sample by the electrostatic-type lens is adjustable independently from the imaging lenses. The at least two stages of deflectors subject the charged particle beam to a deflection action in conjunction with a focal distance adjustment in the electrostatic-type lens for charged particle beams.
(FR)Pour fournir un moyen de réglage pour un système optique dans un dispositif de faisceau de particules chargées, la présente invention propose le dispositif suivant : un module de lentille caractérisé par le fait de comporter une lentille de type électrostatique pour des faisceaux de particules chargées et au moins deux étages de déflecteurs, le module de lentille pouvant être placé dans un système optique pour un dispositif de faisceaux de particules chargées utilisant des particules chargées qui ont traversé un échantillon pour une formation d'image ; ou un dispositif de faisceaux de particules chargées équipé de celui-ci. La lentille de type électrostatique pour des faisceaux de particules chargées est utilisée dans un système optique de lentilles de formation d'image pour former une image de l'échantillon avec le faisceau de particules chargées, et la quantité de défocalisation pour l'image de l'échantillon par la lentille de type électrostatique est réglable indépendamment des lentilles de formation d'image. Lesdits au moins deux étages de déflecteurs soumettent le faisceau de particules chargées à une action de déviation en combinaison avec un ajustement de la distance focale de la lentille de type électrostatique pour des faisceaux de particules chargées.
(JA) 本発明は、荷電粒子線装置の光学系の調整手段を提供するために、以下の構成を提案する。荷電粒子線によって試料の像を結像する結像レンズの光学系に備えられ、かつ前記試料の像のデフォーカス量を前記結像レンズとは独立に調整可能な静電型荷電粒子線レンズと、前記静電型荷電粒子線レンズにおける焦点距離の調整と連動して前記荷電粒子線に偏向作用を与える少なくとも2段の偏向器と、を有し、前記試料を透過した荷電粒子を用いて結像を行う荷電粒子線装置の光学系に配置可能であることを特徴とするレンズモジュールまたはそれを備える荷電粒子線装置。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)