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1. (WO2014209746) DEPTH CAMERA SYSTEM WITH MACHINE LEARNING FOR RECOGNITION OF PATCHES WITHIN A STRUCTURED LIGHT PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/209746    International Application No.:    PCT/US2014/043157
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 19.06.2014
IPC:
H04N 5/262 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054 (US) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
REIF, Dror [IL/IL]; (IL) (US only)
Inventors: REIF, Dror; (IL)
Agent: PFLEGER, Edmund P.; (US)
Priority Data:
13/929,272 27.06.2013 US
Title (EN) DEPTH CAMERA SYSTEM WITH MACHINE LEARNING FOR RECOGNITION OF PATCHES WITHIN A STRUCTURED LIGHT PATTERN
(FR) SYSTÈME DE CAMÉRA DE PROFONDEUR AVEC APPRENTISSAGE AUTOMATIQUE PERMETTANT UNE RECONNAISSANCE DE CORRECTIFS DANS UN MOTIF DE LUMIÈRE STRUCTURÉ
Abstract: front page image
(EN)Generally, this disclosure provides systems, devices, methods and computer readable media for a depth camera with ML techniques for recognition of patches within an SL pattern. The system may include a projection module to project an ML-based SL pattern onto a scene; a camera to receive an image of the SL pattern reflected from the scene; a patch recognition and location module to generate a descriptor vector for a patch segmented from the received image and to query an ML system with the descriptor vector, the ML system configured to provide a patch label associated with the descriptor vector, the patch label comprising a location of the patch relative to the projected SL pattern; and a depth estimation module to triangulate a distance between the camera and a region of the scene associated with the patch based on the location of the patch relative to the projected SL pattern.
(FR)De manière générale, l'invention concerne des systèmes, des dispositifs, des procédés et des supports lisibles par ordinateur pour une caméra de profondeur avec des techniques ML permettant une reconnaissance des correctifs dans un motif SL. Le système peut comprendre un module de projection permettant de projeter un motif SL à base de ML sur une scène; une caméra permettant de recevoir une image du motif SL reflétée par la scène; un module de reconnaissance et de localisation de correctifs permettant de générer un vecteur de descripteur pour un correctif segmenté à partir de l'image reçue et d'interroger un système ML avec le vecteur de descripteur, le système ML étant configuré pour fournir une étiquette de correctif associée au vecteur de descripteur, l'étiquette de correctif comprenant un emplacement du correctif par rapport au motif SL projeté; et un module d'estimation de profondeur permettant de trianguler une distance entre la caméra et une région de la scène associée au correctif d'après l'emplacement du correctif par rapport au motif SL projeté.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)