WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014209381) UNDERCONSTRAINT ELIMINATOR MECHANISM IN DOUBLE PARALLELOGRAM LINEAR FLEXURE BEARING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/209381    International Application No.:    PCT/US2013/048685
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 28.06.2013
IPC:
G02B 21/24 (2006.01), F16H 21/04 (2006.01), F16H 21/24 (2006.01)
Applicants: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139 (US)
Inventors: PANAS, Robert, M.; (US)
Agent: SAMPSON, Richard, L.; Sampson & Associates, P.C. 50 Congress Street, Suite 519 Boston, MA 02109 (US)
Priority Data:
13/930,110 28.06.2013 US
Title (EN) UNDERCONSTRAINT ELIMINATOR MECHANISM IN DOUBLE PARALLELOGRAM LINEAR FLEXURE BEARING
(FR) MÉCANISME D'ÉLIMINATEUR SOUS CONTRAINTE DANS UN SUPPORT DE SYSTÈME DE FLEXION LINÉAIRE EN PARALLÉLOGRAMME DOUBLE
Abstract: front page image
(EN)A double parallelogram linear flexural system and method includes a first stage extending in a direction of movement, and a pair of parallelogram flexures extending from the first stage to distal ends configured for being grounded. A second stage extends parallel to the first stage, with another pair of parallelogram flexures extending between the stages, wherein the stages and parallelogram flexures form a double parallelogram. A linkage is disposed between, and resiliently coupled to, the stages. Linkage guiding flexures extend divergently from the linkage, to distal end portions configured for being grounded. The linkage guiding flexures define a notional triangle having a base extending between the distal end portions, and sides extending through proximal end portions to a notional apex defining a center of rotation for the linkage. The linkage is entirely within the double parallelogram, while constraining the stages to oscillate at the same frequency and phase.
(FR)La présente invention porte sur un système de flexion linéaire en parallélogramme double et un procédé associé, qui comprend un premier étage s'étendant dans une direction de déplacement et une paire de flexions en parallélogramme s'étendant depuis le premier étage vers des extrémités distales configurées pour être mises à la terre. Un second étage s'étend parallèle au premier étage, ayant une autre paire de systèmes de flexion en parallélogramme s'étendant entre les étages, les étages et les systèmes de flexion en parallélogramme formant un parallélogramme double. Une liaison est disposée entre, et couplée de manière élastique à, les étages. Des systèmes de flexion à guidage de liaison s'étendent de manière divergente depuis la liaison, vers des parties extrémités distales configurées pour être mises à la terre. Les systèmes de flexion à guidage de liaison définissent un triangle imaginaire ayant une base s'étendant entre les parties extrémités distales, et des côtés s'étendant à travers des parties extrémités proximales vers un sommet imaginaire définissant un centre de rotation pour la liaison. La liaison est entièrement dans le parallélogramme double, tout en contraignant les étages à osciller à la même fréquence et la même phase.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)