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1. (WO2014208648) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED-FILM MANUFACTURING METHOD, CURED FILM, LIQUID-CRYSTAL DISPLAY, AND ORGANIC EL DISPLAY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/208648    International Application No.:    PCT/JP2014/066936
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 26.06.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: YAMAZAKI Kenta; (JP).
YONEZAWA Hiroyuki; (JP).
MATSUDA Tomoki; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2013-135045 27.06.2013 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED-FILM MANUFACTURING METHOD, CURED FILM, LIQUID-CRYSTAL DISPLAY, AND ORGANIC EL DISPLAY
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, MÉTHODE DE FABRICATION DE FILM DURCI, FILM DURCI, AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET AFFICHAGE EL ORGANIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置
Abstract: front page image
(EN)The provision of the following: a photosensitive resin composition that has a low relative permittivity and exhibits good chemical resistance when made into a cured film; a cured-film manufacturing method; a cured film; a liquid-crystal display; and an organic EL display. Said photosensitive resin composition contains (S) a compound that can be represented by general formula (S), (B-1) a photoacid generator, (C-1) a solvent, and (A-1) a polymer component containing the following: (1) a polymer that has both (a1-1) a constitutional unit that has a group in which an acid group is protected by an acid-labile group and (a1-2) a constitutional unit that has a cross-linkable group; and/or (2) both (a1-1) a polymer that has a constitutional unit that has a group in which an acid group is protected by an acid-labile group and (a1-2) a polymer that has a constitutional unit that has a cross-linkable group. In general formula (S), R1 through R4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; X1 represents a hydrogen atom or a group including a reactive group; X2 represents a single bond or a group having a valence of (n1+1); and n1 represents an integer between 1 and 3, inclusive.
(FR)L'invention concerne : une composition de résine photosensible qui a une faible permittivité relative et présente une bonne résistance chimique lorsqu'elle est transformée en film durci ; une méthode de fabrication de film durci ; un film durci ; un affichage à cristaux liquides ; et un affichage EL organique. Ladite composition de résine photosensible contient (S) un composé qui peut être représenté par la formule générale (S), (B-1) un générateur photoacide, (C-1) un solvant, et (A-1) un composant polymère contenant les éléments suivants : (1) un polymère qui a à la fois (a1-1) une unité constitutive qui a un groupe dans lequel un groupe acide est protégé par un groupe labile en milieu acide et (a1-2) une unité constitutive qui a un groupe pouvant être réticulé ; et/ou (2) à la fois (a1-1) un polymère qui a une unité constitutive qui a un groupe dans lequel un groupe acide est protégé par un groupe labile en milieu acide et (a1-2) un polymère qui a une unité constitutive qui a un groupe pouvant être réticulé. Dans la formule générale (S), R1 à R4 représentent chacun indépendamment un atome hydrogène ou un substituant ; X1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe comprenant un groupe réactif ; X2 représente une liaison simple ou un groupe ayant une valence de (n1 + 1) ; et n1 représente un entier entre 1 et 3 inclus.
(JA) 硬化膜としたときの耐薬品性が良好であり、比誘電率が低い感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置の提供。(A-1)下記(1)および(2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む重合体成分、(1)(a1-1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位、および(a1-2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体、(2)(a1-1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、および(a1-2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体、(S)下記一般式(S)で表される化合物、(B-1)光酸発生剤、(C-1)溶剤を含有する感光性樹脂組成物。一般式(S)中、R1~R4はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、X1は水素原子または反応性基を含む基を表し、X2は単結合または(n1+1)価の基を表し、n1は1~3の整数を表す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)