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1. (WO2014208464) METHOD FOR FORMING THIN FILM AND APPARATUS FOR FORMING THIN FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/208464 International Application No.: PCT/JP2014/066416
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 20.06.2014
IPC:
B05D 3/06 (2006.01) ,B05C 5/00 (2006.01) ,B05C 9/06 (2006.01) ,B05C 9/10 (2006.01) ,B05C 9/12 (2006.01) ,B05D 1/26 (2006.01) ,B05D 7/24 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1416025, JP
MEIKO ELECTRONICS CO., LTD.[JP/JP]; 5-14-15, Ogami, Ayase-shi, Kanagawa 2521104, JP
Inventors: OKAMOTO, Yuji; JP
KUROSU, Mitsuho; JP
Agent: KITAYAMA, Mikio; JP
Priority Data:
2013-13614528.06.2013JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING THIN FILM AND APPARATUS FOR FORMING THIN FILM
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FORMATION DE FILM MINCE ET APPAREIL POUR LA FORMATION DE FILM MINCE
(JA) 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
Abstract: front page image
(EN) Ridge-shaped damming structures (14) are formed on the surface of a substrate (10) along the edges (12) of a region (11) where a thin-film pattern is to be formed. After the formation of the damming structures (14), a liquid photocurable thin-film material is converted into droplets and made to land in the region (11). The thin-film material which has landed in the region (11) is irradiated with a beam of light for temporary curing, and thereby temporarily cured into a film constituent (15A). A liquid photocurable thin-film material is applied on the film constituent (15A) to form a liquid coating (16). The liquid coating (16) and the film component (15A) are irradiated with a beam of light which is for curing and which has an optical intensity higher than that of the beam of light for temporary curing. Thus, the liquid coating (16) is cured, and the degree of curing of the film constituent (15A) is enhanced.
(FR) Selon l'invention, des structures de retenue(14) en forme de nervures sont formées sur la surface d'un substrat (10) le long des bords (12) d'une région (11) où un motif de film mince doit être formé. Après la formation des structures de retenue(14), un matériau de film mince photodurcissable liquide est converti en gouttelettes et amené à se déposer dans la région (11). Le matériau de film mince qui s'est déposé dans la région (11) est irradié par un faisceau de lumière pour un durcissement temporaire et ainsi durci temporairement en un constituant de film (15A). Un matériau de film mince photodurcissable liquide est appliqué sur le constituant de film (15A) pour former un revêtement liquide (16). Le revêtement liquide (16) et le constituant de film (15A) sont irradiés par un faisceau de lumière qui est destiné au durcissement et qui présente une intensité optique supérieure à celle du faisceau de lumière pour le durcissement temporaire. Ainsi, le revêtement liquide (16) est durci et le degré de durcissement du constituant de film (15A) est augmenté.
(JA)  基板(10)の表面の、薄膜パターンを形成すべき予定領域(11)の縁(12)に沿って、尾根状の堰き止め構造(14)を形成する。堰き止め構造(14)を形成した後、予定領域(11)内に、光硬化性の液状の薄膜材料を液滴化して着弾させた後、予定領域(11)に着弾した薄膜材料に仮硬化用の光を照射して仮硬化させることにより膜要素(15A)を形成する。膜要素(15A)の上に、光硬化性の液状の薄膜材料を塗布することにより、液状膜(16)を形成する。液状膜(16)及び膜要素(15A)に、仮硬化用の光よりも光強度が強い本硬化用の光を照射して、液状膜(16)を硬化させると共に、膜要素(16)の硬化度を高める。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)