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1. (WO2014208185) ACNE-AFFECTED SKIN DETERMINATION METHOD AND ACNE-AFFECTED SKIN DETERMINATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/208185    International Application No.:    PCT/JP2014/061288
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 22.04.2014
IPC:
A61B 5/00 (2006.01), A61B 5/107 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: YOSHIDA Naoko; (JP).
OHIRA Noriko; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; Yusen Iwamoto-cho Bldg. 6F., 3-3, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Priority Data:
2013-137266 28.06.2013 JP
Title (EN) ACNE-AFFECTED SKIN DETERMINATION METHOD AND ACNE-AFFECTED SKIN DETERMINATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE PEAU AFFECTÉE PAR L'ACNÉ ET DISPOSITIF DE DÉTERMINATION DE PEAU AFFECTÉE PAR L'ACNÉ
(JA) ニキビ肌判定方法およびニキビ肌判定装置
Abstract: front page image
(EN)In the present invention, with respect to a test subject's face, an upper region and a lower region are set so as to vertically bisect the face. A measurement value of the moisture content of the lower region is obtained, and a measurement value of the moisture content of the upper region is obtained. On the basis of the upper region and the lower region moisture-content measurement values, calculated are a target moisture value indicating a level for the moisture content distributed in either the upper region or the lower region, and a reference moisture value indicating a level for the moisture content distributed in a reference region that includes the other of the upper region and the lower region. The degree of change in moisture of the target moisture value with respect to the reference moisture value is found, and on the basis of the degree of change in moisture that was found, the ease with which acne could breakout in the test subject's face is determined.
(FR)Dans la présente invention, par rapport au visage d'un sujet de test, une région supérieure et une région inférieure sont définies de façon à bissecter le visage. Une valeur de mesure de la teneur en humidité de la région inférieure est obtenue, et une valeur de mesure de la teneur en humidité de la région supérieure est obtenue. Sur la base des valeurs de mesure de teneur en humidité de la région supérieure et de la région inférieure, sont calculées une valeur d'humidité cible, indiquant un niveau de teneur en humidité distribuée dans l'une de la région supérieure et de la région inférieure, et une valeur d'humidité de référence indiquant un niveau de teneur en humidité distribuée dans une région de référence qui comprend l'autre de la région supérieure et de la région inférieure. Le degré de changement d'humidité de la valeur d'humidité cible par rapport à la valeur d'humidité de référence est trouvé et, sur la base du degré de changement d'humidité qui a été trouvé, la facilité avec laquelle l'acné peut être éliminée sur le visage du sujet de test est déterminée.
(JA) 被験者の顔に対して、上下に二分するように上部領域と下部領域を設定し、下部領域の水分量の測定値を取得する共に上部領域の水分量の測定値を取得し、上部領域および下部領域の水分量の測定値に基づいて、上部領域および下部領域の一方に分布する水分量の水準を示す対象水分値と、上部領域および下部領域の他方を含む基準領域に分布する水分量の水準を示す基準水分値とを算出し、基準水分値に対する対象水分値の水分変化度を求め、求められた水分変化度に基づいて、被験者の顔におけるニキビの発生し易さを判定する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)