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1. (WO2014208064) PHOTOCURABLE COMPOSITION AND METHODS FOR OPTICAL COMPONENT BY USING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/208064 International Application No.: PCT/JP2014/003311
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 19.06.2014
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
Inventors: HONMA, Takeshi; JP
ITO, Toshiki; JP
YONEZAWA, Shiori; JP
CHIBA, Keiko; JP
YAMASHITA, Keiji; JP
Agent: ABE, Takuma; JP
Priority Data:
2013-13353826.06.2013JP
2013-24713529.11.2013JP
2014-10933927.05.2014JP
Title (EN) PHOTOCURABLE COMPOSITION AND METHODS FOR OPTICAL COMPONENT BY USING THE SAME
(FR) COMPOSITION PHOTODURCISSABLE ET PROCÉDÉS POUR COMPOSANT OPTIQUE L'UTILISANT
Abstract: front page image
(EN) In an imprint method in a condensable gas atmosphere, the force (mold releasing force) required to separate a mold from a resist cured film (mold release) has been large. A photocurable composition for performing imprint in an atmosphere containing a condensable gas includes a component (A) which is a (meth)acrylate monomer; a component (B) which is a photopolymerization initiator; and a component (C) which is a mold releasing agent. The saturated solubility of the component (C) in the condensable gas at 5 degrees (Celsius) and 1 atm is 50% by weight or more, the condensable gas being in a liquid state at 5 degrees (Celsius) and 1 atm.
(FR) L'invention est motiveé par le fait que dans un procédé d'impression dans une atmosphère de gaz condensable, la force (force de libération de moule) requise pour séparer un moule d'une pellicule durcie d'enduit protecteur (libération du moule) est importante. Une composition photodurcissable permettant d'effectuer une impression dans une atmosphère contenant un gaz condensable inclut un composant (A) qui est un monomère de (méth)acrylate ; un composant (B) qui est un initiateur de photopolymérisation ; et un composant (C) qui est un agent de libération de moule. La solubilité saturée du composant (C) dans le gaz condensable à 5 degrés (Celsius) et à 1 atm est supérieure ou égale à 50 % en poids, le gaz condensable étant dans un état liquide à 5 degrés (Celsius) et à 1 atm.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)