WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014207852) CHARGED PARTICLE BEAM RADIATION SYSTEM AND BEAM EMISSION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/207852    International Application No.:    PCT/JP2013/067561
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 26.06.2013
IPC:
H05H 13/04 (2006.01), A61N 5/10 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01), H05H 7/10 (2006.01)
Applicants: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventors: NISHIUCHI Hideaki; (JP).
HIRAMOTO Kazuo; (JP)
Agent: KASUGA Yuzuru; Torii-nihonbashi Bldg., 4-1, Nihonbashi-honcho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030023 (JP)
Priority Data:
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM RADIATION SYSTEM AND BEAM EMISSION METHOD
(FR) SYSTÈME DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'ÉMISSION DE FAISCEAU
(JA) 荷電粒子ビーム照射システムおよびそのビーム出射方法
Abstract: front page image
(EN)When controlling ion beam emission from a synchrotron, in order to suppress the occurrence of current ripples in the emitted beam, caused by a radio-frequency voltage applied to emission radio-frequency electrodes for increasing the betatron oscillation amplitude of a circling ion beam, and increase the dose rate, an emission control device (20) applies, as the radio-frequency voltage to be applied to emission radio-frequency electrodes (16a), a radio-frequency voltage constituted by a first radio-frequency voltage (Fs) for increasing the oscillation amplitude in a range not exceeding stable limits such that a beam circling inside a synchrotron (13) is not emitted to the outside of the synchrotron, and a second radio-frequency voltage (Fe) for emitting the beam from the synchrotron.
(FR)Lors de la commande de l'émission d'un faisceau ionique provenant d'un synchrotron, afin de supprimer la survenue d'ondulations de courant dans le faisceau émis, provoquée par une tension de radiofréquence appliquée aux électrodes à émission radiofréquence pour augmenter l'amplitude d'oscillation bêtatron d'un faisceau ionique circulaire, et d'augmenter le débit de dose, un dispositif (20) de commande d'émission applique, en tant que tension de radiofréquence à appliquer aux électrodes à émission radiofréquence (16a), une tension de radiofréquence constituée d'une première tension de radiofréquence (Fs) pour augmenter l'amplitude d'oscillation dans une plage n’excédant pas les limites stables de sorte qu'un faisceau circulaire à l'intérieur d'un synchrotron (13) n'est pas émis vers l'extérieur du synchrotron, et d'une seconde tension de radiofréquence (Fe) pour émettre le faisceau à partir du synchrotron.
(JA) シンクロトロンからイオンビームの出射制御を実施する際、周回しているイオンビームのベータトロン振動振幅を増大させる出射用高周波電極に印加する高周波電圧に起因する出射ビームの電流リップルの発生を抑制し、線量率を向上するため、出射制御装置20は、出射用高周波電極16aに印加する高周波電圧として、シンクロトロン13内を周回するビームをシンクロトロン外に出射されないように、安定限界を超えない範囲で振動振幅を増大させるための第1高周波電圧Fsと、シンクロトロンからビームを出射させるための第2高周波電圧Feとで構成される高周波電圧を印加する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)