WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014207289) FORMING A SUBSTRATE WEB TRACK IN AN ATOMIC LAYER DEPOSITION REACTOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/207289    International Application No.:    PCT/FI2013/050713
Publication Date: 31.12.2014 International Filing Date: 27.06.2013
IPC:
C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: PICOSUN OY [FI/FI]; Tietotie 3 FI-02150 Espoo (FI)
Inventors: MALINEN, Timo; (FI).
KILPI, Väinö; (FI)
Agent: ESPATENT OY; Kaivokatu 10 D FI-00100 Helsinki (FI)
Priority Data:
Title (EN) FORMING A SUBSTRATE WEB TRACK IN AN ATOMIC LAYER DEPOSITION REACTOR
(FR) FORMATION D'UNE PISTE SUR UNE TOILE DE SUBSTRAT DANS UN RÉACTEUR DE DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus and method for forming a substrate web (15) track with a repeating pattern into a reaction space of a deposition reactor (10) by moving a first set of support rolls (17, 27, 37) in relation to a second set of support rolls (18, 28). One effect of the invention is automatic track formation. Another effect is the possibility of achieving a top-to-bottom flow by removing gases from a reaction space via a route travelling through a first set of support rolls for the substrate web.
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé pour former une piste sur une toile de substrat (15) présentant un motif récurrent dans un espace de réaction d'un réacteur de dépôt (10) par déplacement d'un premier ensemble de rouleaux support (17, 27, 37) par rapport à un deuxième ensemble de rouleaux support (18, 28). Un effet de l'invention est la formation automatique d'une piste. Un autre effet est la possibilité d'obtenir un flux du haut vers le bas par l'élimination de gaz d'un espace de réaction via une voie passant au travers du premier ensemble de rouleaux support pour la toile de substrats.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)