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1. (WO2014204627) METHOD FOR FAST AND REPEATABLE PLASMA IGNITION AND TUNING IN PLASMA CHAMBERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/204627    International Application No.:    PCT/US2014/039965
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 29.05.2014
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: BISHARA, Waheb; (US).
BANNA, Samer; (US)
Agent: LINARDAKIS, Leonard P.; Moser Taboada 1030 Broad Street Suite 203 Shrewsbury, New Jersey 07702 (US)
Priority Data:
61/835,847 17.06.2013 US
14/287,480 27.05.2014 US
Title (EN) METHOD FOR FAST AND REPEATABLE PLASMA IGNITION AND TUNING IN PLASMA CHAMBERS
(FR) PROCÉDÉ POUR UN ALLUMAGE ET UN RÉGLAGE DE PLASMA RAPIDES ET RÉPÉTABLES DANS DES CHAMBRES À PLASMA
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present disclosure include methods and apparatus for plasma processing in a process chamber using an RF power supply coupled to the process chamber via a matching network. In some embodiments, the method includes providing RF power to the process chamber by the RF power supply at a first frequency while the matching network is in a hold mode, adjusting the first frequency, using the RF power supply, to a second frequency during a first time period to ignite the plasma, adjusting the second frequency, using the RF power supply, to a known third frequency during a second time period while maintaining the plasma, and changing an operational mode of the matching network to an automatic tuning mode to reduce a reflected power of the RF power provided by the RF power supply.
(FR)L'invention concerne des procédés et des appareils pour un traitement plasma dans une chambre de traitement utilisant une source d'alimentation RF couplée à la chambre de traitement via un réseau concordant. Le procédé inclut la fourniture d'une alimentation RF à la chambre de traitement par la source d'alimentation RF à une première fréquence alors que le réseau concordant est dans un mode de maintien, à une deuxième fréquence durant une première période pour allumer le plasma, l'ajustement de la deuxième fréquence, en utilisant la source d'alimentation RF, à une troisième fréquence connue durant une seconde période tout en entretenant le plasma, et le passage d'un mode de fonctionnement du réseau concordant à un mode de réglage automatique pour réduire une puissance réfléchie de l'alimentation RF fournie par la source d'alimentation RF.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)