WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014204078) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR HIGH-SPEED DEPOSITION AT AMBIENT TEMPERATURE WITH TUBE-TYPE FILTER TRAP, SYSTEM FOR REMOTELY CONTROLLING SAME, AND DEPOSITION METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/204078    International Application No.:    PCT/KR2014/000699
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 24.01.2014
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Applicants: URI FINE PLATING CO.,LTD. [KR/KR]; 22, 4sandan 6-gil, Jiksan-eup, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 331-814 (KR)
Inventors: JANG, Tae-Soon; (KR)
Agent: KIM, Nam-Doo; 401 ho, 228, Cheongsa-ro, Seo-gu, Daejeon 302-828 (KR)
Priority Data:
10-2013-0069064 17.06.2013 KR
10-2013-0137567 13.11.2013 KR
10-2013-0153929 11.12.2013 KR
Title (EN) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR HIGH-SPEED DEPOSITION AT AMBIENT TEMPERATURE WITH TUBE-TYPE FILTER TRAP, SYSTEM FOR REMOTELY CONTROLLING SAME, AND DEPOSITION METHOD USING SAME
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR POUR DÉPÔT À HAUTE VITESSE À TEMPÉRATURE AMBIANTE DOTÉ D'UN FILTRE-PIÈGE DE TYPE TUBULAIRE, SYSTÈME PERMETTANT DE LE COMMANDER À DISTANCE ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT L'UTILISANT
(KO) 관형 필터트랩을 갖는 고속 증착용 상온 화학증착장치 및 그 원격제어시스템과 그 증착방법
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a chemical vapor deposition apparatus for high-speed deposition at an ambient temperature with a tube-type filter trap. The chemical vapor deposition apparatus for high-speed deposition includes: a heating unit including a vaporizing furnace in which a first heater is installed to vaporize a dimer material that is a chemical vapor deposition raw material into a dimer in a polymer state after the dimer material is fed into the vaporizing furnace, thereby reducing the volume and manufacturing costs of equipment, reducing a process time due to a continuous deposition process, and easily and efficiently managing equipment control by an end user and a pyrolysis furnace connected and installed on one side of the vaporizing furnace to supply the dimer and in which a second heater is installed to dissolve the dimer in the polymer state into a monomer in a unimolecular state; a vacuum deposition unit connected and installed on one side of the pyrolysis furnace of the heating unit and including a deposition chamber receiving an adherend therein and forming a vacuum deposition space so that a monomer unimolecular gas, which is supplied into the pyrolysis furnace, is deposited on a surface of the adherend, and a vacuum pump that is driven to generate vacuum within the deposition chamber; a filter trap coupled and installed on the vacuum deposition unit to mutually connect the vacuum pump to the deposition chamber and configured to deposit and extract the excessive monomer generated in the vacuum generation process using the vacuum pump and the deposition process; a measuring unit including a temperature sensor that is installed in each of the vaporizing furnace and the pyrolysis furnace to measure the temperature of each of the vaporizing furnace and the pyrolysis furnace, and a vacuum sensor installed in the deposition chamber to measure a vacuum value generated from the vacuum pump; a control box including a display window for displaying the temperature and vacuum value which are measured by the temperature sensor and the vacuum sensor of the measuring unit, and a plurality of power buttons for operating a first heater and second heater of the heating unit and applying a standby power and main power into the vacuum pump; and a control unit mounted in the control box to apply a control signal into each of the first heater, the second heater, and the vacuum pump according to the measurement signal inputted from the temperature sensor and vacuum sensor of the measuring unit, wherein the control unit is capable of setting reference values with respect to the temperature and vacuum values. The control unit controls a tube-type filter trap that preliminarily heats each of the first and second heaters to the preset temperature and maintains the preheated state when the standby power is applied to the control box.
(FR)La présente invention porte sur un appareil de dépôt chimique en phase vapeur pour un dépôt à haute vitesse à une température ambiante doté d'un filtre-piège de type tubulaire. L'appareil de dépôt chimique en phase vapeur pour un dépôt à haute vitesse comprend : une unité de chauffage comprenant un four de vaporisation dans lequel est installé un premier dispositif de chauffage pour vaporiser une substance dimère qui est une matière première de dépôt chimique en phase vapeur en un dimère dans un état de polymère après que la substance dimère est introduite dans le four de vaporisation, ce qui de cette manière réduit le volume et les coûts de fabrication d'appareillage, réduit une durée de processus grâce à un processus de dépôt en continu et permet de gérer facilement et efficacement le réglage de l'appareillage par un utilisateur final, et un four de pyrolyse raccordé et installé sur un côté du four de vaporisation pour apporter le dimère et dans lequel est installé un second dispositif de chauffage pour dissoudre le dimère à l'état de polymère en un monomère dans un état monomoléculaire ; une unité de dépôt sous vide raccordée et installée sur un côté du four de pyrolyse de l'unité de chauffage et comprenant une chambre de dépôt contenant un substrat et formant un espace de dépôt sous vide afin qu'un monomère monomoléculaire gazeux, qui est apporté dans le four de pyrolyse, soit déposé sur une surface du substrat et une pompe à vide qui est actionnée pour produire du vide à l'intérieur de la chambre de dépôt ; un filtre-piège couplé et installé sur l'unité de dépôt sous vide pour raccorder l'une à l'autre la pompe à vide et la chambre de dépôt et conçu pour faire précipiter et extraire le monomère en excès produit pendant le processus de production sous vide utilisant la pompe à vide et le processus de dépôt ; une unité de mesure comprenant une sonde de température qui est installée dans chacun du four de vaporisation et du four de pyrolyse pour mesurer la température de chacun du four de vaporisation et du four de pyrolyse et un capteur de vide installé dans la chambre de dépôt pour mesurer une valeur de vide produit à partir de la pompe à vide ; un module de commande comprenant une fenêtre d'affichage pour l'affichage de la température et de la valeur de vide qui sont mesurées par la sonde de température et le capteur de vide de l'unité de mesure et une pluralité d'interrupteurs pour la commande du premier dispositif de chauffage et du second dispositif de chauffage de l'unité de chauffage et l'application d'une alimentation d'attente et d'une alimentation principale à la pompe à vide ; et une unité de commande montée dans le module de commande pour appliquer un signal de commande à chacun du premier dispositif de chauffage, du second dispositif de chauffage et de la pompe à vide selon le signal de mesure entrant provenant de la sonde de température et du capteur de vide de l'unité de mesure, l'unité de commande permettant de fixer des valeurs de référence en ce qui concerne les valeurs de température et de vide. L'unité de commande commande un filtre-piège de type tubulaire qui chauffe de façon préliminaire chacun des premier et second dispositifs de chauffage à la température préréglée et maintient l'état préchauffé lorsque l'alimentation d'attente est appliquée au module de commande.
(KO)본 발명은 설비의 부피와 제작비용을 줄이고, 연속적인 증착작업으로 작업소요시간을 줄이며, 실수요자가 설비제어를 용이하고 효율적으로 관리할 수 있도록, 내부에 화학증착원료인 다이머 재료를 투입한 후 폴리머 상태의 다이머로 기화시키도록 제1가열기가 설치되는 기화로와, 상기 기화로의 한쪽에 다이머가 공급될 수 있도록 연결 설치되고 폴리머 상태의 다이머를 단분자 형태인 모노머로 분해시키도록 제2가열기가 설치되는 분해로로 구성되는 가열부와; 상기 가열부의 분해로 한쪽에 연결 설치되되 내부에 피착체를 수용가능하게 구비되고 상기 분해로로부터 공급된 가스 형태의 모노머 단분자가 피착체의 표면에 증착될 수 있도록 진공에 의한 증착공간을 형성하는 증착챔버와, 상기 증착챔버 내에 진공을 생성시킬 수 있게 구동하는 진공펌프로 구성되는 진공증착부와; 상기 진공증착부에서 상기 진공펌프와 상기 증착챔버를 상호 연결가능하게 결합 설치되고 상기 진공펌프에 따른 진공생성과정 및 증착과정에서 생성된 과잉의 모노머를 증착 석출할 수 있도록 구성되는 필터트랩과; 상기 기화로 및 상기 분해로에 각각 설치되어 개개의 온도를 측정가능하게 구비되는 온도센서와, 상기 증착챔버에 설치되고 상기 진공펌프로부터 생성되는 진공값을 측정가능하게 형성되는 진공센서로 구성되는 측정부와; 상기 측정부의 온도센서 및 진공센서로부터 측정된 온도 및 진공값을 표시하는 디스플레이창과, 상기 가열부의 제1가열기 및 제2가열기의 작동은 물론 상기 진공펌프에 예비전원 및 주전원을 인가하는 복수 개의 전원버튼으로 구성되는 컨트롤박스와; 상기 컨트롤박스 내에 장착되고 상기 측정부의 온도센서 및 진공센서로부터 입력되는 측정신호에 따라 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기와 상기 진공펌프에 각각 제어신호를 인가하되 온도 및 진공값에 대한 기준값을 설정가능하게 구비되는 제어부;를 포함하고, 상기 제어부는 상기 컨트롤박스로부터 예비전원이 인가되면 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기를 각각 설정온도까지 예비가열하되 예열상태를 유지가능하게 제어하는 관형 필터트랩을 갖는 고속 증착용 상온 화학증착장치를 제공한다.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)