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1. (WO2014203654) DISTANCE MEASUREMENT DEVICE, SHAPE MEASUREMENT DEVICE, PROCESSING SYSTEM, DISTANCE MEASUREMENT METHOD, SHAPE MEASUREMENT METHOD, AND PROCESSING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/203654    International Application No.:    PCT/JP2014/062765
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 14.05.2014
IPC:
G01S 17/36 (2006.01), B21C 51/00 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01), G01C 3/06 (2006.01)
Applicants: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventors: WATANABE Masahiro; (JP).
HARIYAMA Tatsuo; (JP).
TANIGUCHI Atsushi; (JP).
KASAI Hiroaki; (JP)
Agent: INOUE Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2013-126261 17.06.2013 JP
2014-076630 03.04.2014 JP
Title (EN) DISTANCE MEASUREMENT DEVICE, SHAPE MEASUREMENT DEVICE, PROCESSING SYSTEM, DISTANCE MEASUREMENT METHOD, SHAPE MEASUREMENT METHOD, AND PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE DISTANCE, DISPOSITIF DE MESURE DE FORME, SYSTÈME DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE MESURE DE DISTANCE, PROCÉDÉ DE MESURE DE FORME, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
(JA) 距離測定装置、形状測定装置、加工システム、距離測定方法、形状測定方法および加工方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention enhances the measurement accuracy of a distance measurement device (method) that uses a laser. A distance measurement method provided with a first step for irradiating multiwavelength laser light; a second step for splitting the multiwavelength laser light; a third step for carrying out photoelectric conversion for each wavelength of measurement light that has been obtained by irradiating, onto a subject, a first beam having undergone the splitting and for detecting the converted measurement light as a measurement signal; a fourth step for carrying out photoelectric conversion for each wavelength of a second beam that has undergone the splitting and is different from the first beam and for detecting the converted beam as a reference signal; and a fifth step for detecting the relative phase between the measurement signal and the reference signal and determining the distance of a measurement light path on the basis of the detected relative phase.
(FR)La présente invention améliore la précision de mesure d'un dispositif (procédé) de mesure de distance qui utilise un laser. Un procédé de mesure de distance comporte une première étape d'exposition d'une lumière laser à plusieurs longueurs d'onde ; une deuxième étape de division de la lumière laser à plusieurs longueurs d'onde ; une troisième étape de réalisation d'une conversion photoélectrique pour chaque longueur d'onde de la lumière de mesure qui a été obtenue en irradiant, sur un sujet, un premier faisceau ayant subi la division et de détection de la lumière de mesure convertie en tant que signal de mesure ; une quatrième étape de réalisation d'une conversion photoélectrique pour chaque longueur d'onde d'un second faisceau qui a subi la division et est différent du premier faisceau et de détection du faisceau converti en tant que signal de référence ; et une cinquième étape de détection de la phase relative entre le signal de mesure et le signal de référence et de détermination de la distance d'une trajectoire de lumière de mesure sur base de la phase relative détectée.
(JA) レーザを用いた距離測定装置(方法)における測定精度を向上する。 多波長のレーザ光を照射する第1工程と、多波長のレーザ光を分割する第2工程と、前記分割された第一のビームを対象物に照射させて得た測定光を波長ごとに光電変換して測定信号として検出する第3工程と、前記分割された第一のビームとは異なる第二のビームを波長ごとに光電変換して参照信号として検出する第4工程と、前記測定信号と前記参照信号との相対位相を検出し、該検出した相対位相に基づき測定光路の距離を求める第5工程とを備える距離測定方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)