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1. (WO2014203650) EXPOSURE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/203650    International Application No.:    PCT/JP2014/062555
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 12.05.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Applicants: BEAC CO., LTD. [JP/JP]; 9984-1097, Aza Minamiharayama, Ochiai, Fujimi-machi, Suwa-gun, Nagano 3990214 (JP)
Inventors: KATO, Kazuhiko; (JP).
HANYU, Shinichi; (JP)
Agent: MATSUO, Nobutaka; MEBUKI Intellectual Property Services, 9862-60, Ochiai, Fujimi-machi, Suwa-gun, Nagano 3990214 (JP)
Priority Data:
2013-128016 18.06.2013 JP
Title (EN) EXPOSURE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D’EXPOSITION
(JA) 露光装置
Abstract: front page image
(EN)This exposure device comprises: a substrate retaining stage (110) which retains a substrate (W) and which is capable of shuttling and elevating; an exposure stage (320) which retains a mask plate (310) such that a mask pattern (M2) faces a photosensitive face (M1) of the substrate (W); a mask dust removal unit (120) which advances together with the substrate retaining stage (110) and which makes contact with the surface of the pattern face (M2) of the mask (310) by a force in a direction that presses against the pattern face (M2) (first direction force) and removes dust while rotating; and a substrate dust removal unit (210) which, by the advancing of the substrate retaining stage (110), makes contact with the photosensitive face (M1) of the substrate (W) by a force in a direction that presses against the photosensitive face (M1) of the substrate (W) (second direction force) and removes dust while rotating. With this exposure device, it is possible to simplify the overall mechanism of removing dust from the photosensitive face of a substrate and the surface of a mask, and to rapidly expose a large volume of substrates.
(FR)L’invention porte sur un dispositif d’exposition, comprenant : une platine porte-substrat (110) portant un substrat (W) et susceptible d’effectuer un mouvement de va-et-vient et de bas en haut ; une platine d’exposition (320) portant un masque (310) de manière à ce qu’un motif de masque (M2) se situe en regard d’une face photosensible (M1) du substrat (W) ; une unité de dépoussiérage de masque (120) se déplaçant avec la platine porte-substrat (110) et venant au contact de la surface de la face à motif (M2) du masque (310) sous l’effet d’une force dirigée de façon à faire pression sur la face à motif (M2) (force dans une première direction) pour effectuer un dépoussiérage par rotation ; et une unité de dépoussiérage de substrat (210) qui, grâce au déplacement de la platine porte-substrat (110), vient au contact de la face photosensible (M1) du substrat (W) sous l’effet d’une force dirigée de façon à faire pression sur la face photosensible (M1) du substrat (W) (force dans une deuxième direction) pour effectuer un dépoussiérage par rotation. Le dispositif d’exposition selon l’invention permet de simplifier le processus global de dépoussiérage de la face photosensible d’un substrat et de la surface d’un masque, et d’assurer l’exposition rapide d’un grand volume de substrats.
(JA) 本発明の露光装置は、基板Wを保持して往復動及び昇降が可能な基板保持ステージ110と、マスクパターンM2が基板Wの感光面M1に対面するようにマスク板310を保持する露光ステージ320と、基板保持ステージ110とともに進行し、マスク板310のパターン面M2を押圧する方向の力(第1方向の力)によってパターン面M2の表面に接触して回転しながら除塵して行くマスク除塵部120と、基板保持ステージ110の進行により、基板Wの感光面M1を押圧する方向の力(第2方向の力)によって基板Wの感光面M1に接触して回転しながら除塵して行く基板除塵部210とを備える。 本発明の露光装置によれば、 基板の感光面及びマスクの表面を除塵するための機構全体を簡単化することができるとともに、大量の基板を高速に露光可能とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)