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1. (WO2014202532) CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND METHOD OF OPERATING THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/202532    International Application No.:    PCT/EP2014/062570
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 16.06.2014
IPC:
H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/153 (2006.01), H01J 37/26 (2006.01)
Applicants: ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FÜR HALBLEITERPRÜFTECHNIK MBH [DE/DE]; Ammerthalstr. 20 85551 Heimstetten (DE)
Inventors: FROSIEN, Jürgen; (DE).
COOK, Benjamin John; (DE)
Agent: ZIMMERMANN & PARTNER; Josephspitalstr. 15 80331 München (DE)
Priority Data:
13172298.5 17.06.2013 EP
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND METHOD OF OPERATING THEREOF
(FR) SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET SON PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT
Abstract: front page image
(EN)A charged particle beam device is described. The charged particle beam device includes a charged particle beam source (12) for emitting a charged particle beam, and a switchable multi-aperture (26) for generating two or more beam bundles (21a, 21b) from the charged particle beam, wherein the switchable multi-aperture includes: two or more aperture openings, wherein each of the two or more aperture openings is provided for generating a corresponding beam bundle of the two or more beam bundles; a beam blanker arrangement (226) configured for individually blanking the two or more beam bundles; and a stopping aperture (227) for blocking beam bundles, which are blanked off by the beam blanker arrangement. The device further includes a control unit electrically connected to the beam blanker arrangement and configured to control the individual blanking of the two or more beam bundles for switching of the switchable multi-aperture and an objective lens (18) configured for focusing the two or more beam bundles on a specimen (19) or wafer, wherein the two or more beam bundles are tilted with respect to the specimen or wafer depending on the position of each of the two or more beam bundles relative to an optical axis defined by the objective lens, and wherein the objective lens is configured for focusing the charged particle beam source, a virtual source provided by the charged particle beam source or a crossover.
(FR)Cette invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées. Ledit dispositif à faisceau de particules chargées comprend une source de faisceau de particules chargées (12) conçue pour émettre un faisceau de particules chargées et une plaque à ouvertures multiples commutables (26) conçue pour générer deux ou plusieurs faisceaux partiels (21a, 21b) à partir du faisceau de particules chargées, ladite plaque à ouvertures multiples commutables comprenant : deux ou plusieurs ouvertures, chacune desdites ouvertures étant conçue pour générer un faisceau partiel correspondant parmi lesdits faisceaux partiels ; un agencement suppresseur de faisceau (226) conçu pour supprimer individuellement lesdits faisceaux partiels ; et une ouverture de blocage (227) conçue pour bloquer les faisceaux partiels qui sont supprimés par l'agencement suppresseur de faisceau. Ledit dispositif comprend en outre une unité de commande en contact électrique avec l'agencement suppresseur de faisceau et conçue pour commander la suppression individuelle desdits faisceaux partiels afin de commuter ladite plaque à ouvertures multiples commutables et une lentille d'objectif (18) conçue pour focaliser lesdits faisceaux partiels sur un échantillon (19) ou une tranche, lesdits faisceaux partiels étant inclinés par rapport à l'échantillon ou à la tranche en fonction de la position de chacun desdits faisceaux partiels par rapport à un axe optique défini par la lentille d'objectif. Ladite lentille d'objectif est conçue pour focaliser la source de faisceau de particules chargées, une source virtuelle fournie par la source de faisceau de particules chargées ou un point de convergence.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)