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1. (WO2014202462) ELECTRODE AND OPTOELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/202462 International Application No.: PCT/EP2014/062261
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 12.06.2014
IPC:
H01L 51/52 (2006.01)
Applicants: OSRAM OLED GMBH[DE/DE]; Wernerwerkstrasse 2 93049 Regensburg, DE
Inventors: SCHARNER, Silke; DE
WEHLUS, Thomas; DE
Agent: VIERING, JENTSCHURA & PARTNER; Grillparzerstr. 14 81675 München, DE
Priority Data:
10 2013 106 508.221.06.2013DE
Title (EN) ELECTRODE AND OPTOELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT
(FR) ÉLECTRODE ET COMPOSANT OPTOÉLECTRONIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSANT OPTOÉLECTRONIQUE
(DE) ELEKTRODE UND OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT SOWIE EIN VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
Abstract: front page image
(EN) In various forms of embodiments, the invention relates to an electrode (110, 114) comprising: an optically transparent or translucent matrix (104) having at least one matrix material; and particles (106) embedded in the matrix (104) which has a refractive index which is greater than the refractive index of the least one matrix material; the difference between the refractive index of the at least one matrix material and the particles (106) embedded in matrix (104) is at least 0.05.
(FR) Dans différents modes de réalisation, l'invention concerne une électrode (110, 114) comportant une matrice (104) optiquement transparente ou translucide comprenant au moins un matériau matriciel, et des particules (106) incorporées dans la matrice (104) qui présentent un indice de réfraction supérieur à l'indice de réfraction du matériau matriciel. L'écart entre l'indice de réfraction du matériau matriciel et celui des particules incorporées dans la matrice (104) est d'au moins 0,05.
(DE) In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Elektrode (110, 114) bereitgestellt, aufweisend: eine optisch transparente oder transluzente Matrix (104) mit mindestens einem Matrixmaterial; und in die Matrix (104) eingebettete Partikel (106), die einen Brechungsindex aufweisen der größer ist als der Brechungsindex des mindestens einen Matrixmaterials; wobei ein Brechungsindexunterschied zwischen dem mindestens einen Matrixmaterial und den in die Matrix (104) eingebetteten Partikeln (106) mindestens 0,05 ist.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)