WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014202375) METHOD FOR PRODUCING AN ANTIREFLECTIVE LAYER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/202375 International Application No.: PCT/EP2014/061379
Publication Date: 24.12.2014 International Filing Date: 02.06.2014
IPC:
G02B 1/11 (2006.01) ,B29C 59/14 (2006.01) ,C08J 7/12 (2006.01) ,G02B 1/12 (2006.01)
Applicants: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V.[DE/DE]; Hansastraße 27 c 80686 München, DE
Inventors: SCHULZ, Ulrike; DE
MUNZERT, Peter; DE
RICKELT, Friedrich; DE
KAISER, Norbert; DE
Agent: EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schloßschmidstr. 5 80639 München, DE
Priority Data:
10 2013 106 392.619.06.2013DE
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING AN ANTIREFLECTIVE LAYER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE ANTIREFLET
(DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER ENTSPIEGELUNGSSCHICHT
Abstract: front page image
(EN) A method for producing an antireflective layer on a substrate (10) is specified, comprising the method steps of: - creating a first nano structure (11) in a first material by a first plasma etching process, wherein the first material is the material of the substrate (10) or the material of a layer (1) of a first organic material applied to the substrate (10), - applying a layer (2) of a second material to the first nano structure (11), wherein the second material is an organic material, and - creating a second nano structure (12) in the layer (2) of the second material by a second plasma etching process, wherein the second material has a greater etching rate than the first material during the implementation of the second plasma etching process.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'une couche antireflet sur un substrat (10). Ledit procédé comprend les étapes qui suivent consistant à : produire une première nanostructure (11) dans un premier matériau à l'aide d'un premier processus de gravure à plasma, le premier matériau étant le matériau du substrat (10) ou le matériau d'une couche (1) appliquée sur le substrat (10), fabriquée à partir d'un premier matériau organique; - appliquer une couche (2) fabriquée à partir d'un deuxième matériau sur la première nanostructure (11), le deuxième matériau étant un matériau organique; et - produire une deuxième nanostructure (12) dans la couche (2) fabriquée à partir du deuxième matériau à l'aide d'un deuxième processus de gravure à plasma, le deuxième matériau présentant lors de la mise en œuvre du deuxième processus de gravure à plasma une vitesse de gravure plus importante que le premier matériau.
(DE) Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht auf einem Substrat (10) angegeben, umfassend die Verfahrensschritte: - Erzeugung einer ersten Nanostruktur (11) in einem ersten Material mit einem ersten Plasmaätzprozess, wobei das erste Material das Material des Substrats (10) oder das Material einer auf das Substrat (10) aufgebrachten Schicht (1) aus einem ersten organischen Material ist, - Aufbringen einer Schicht (2) aus einem zweiten Material auf die erste Nanostruktur (11), wobei das zweite Material ein organisches Material ist, und - Erzeugung einer zweiten Nanostruktur (12) in der Schicht (2) aus dem zweiten Material mit einem zweiten Plasmaätzprozess, wobei das zweite Material bei der Durchführung des zweiten Plasmaätzprozesses eine größere Ätzrate als das erste Material aufweist.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)