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1. (WO2014200028) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, MASK MATERIAL FOR SAND-BLASTING, AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR OBJECT TO BE TREATED
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/200028 International Application No.: PCT/JP2014/065493
Publication Date: 18.12.2014 International Filing Date: 11.06.2014
IPC:
G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01)
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.[JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
Inventors: ITAGAKI Shuuichi; JP
YOSHIDA Tetsuya; JP
OZAWA Kyouko; JP
Agent: HASEGAWA Yoshiki; JP
Priority Data:
2013-12551714.06.2013JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, MASK MATERIAL FOR SAND-BLASTING, AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR OBJECT TO BE TREATED
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE MASQUE POUR DÉCAPAGE AU SABLE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE POUR OBJET À TRAITER
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides a photosensitive resin composition containing a binder polymer (A) having a carboxyl group, a photopolymerizable monofunctional compound (B) having an ethylene-based unsaturated group, a photopolymerizable polyfunctional compound (C) having an ethylene-based unsaturated group, a urethane (meth)acrylate compound (D), and a photopolymerization initiator (E), wherein component (B) contains a (meth)acrylate compound represented by general formula (1) or a (meth)acrylate compound represented by general formula (2).
(FR) La présente invention concerne une composition de résine photosensible contenant un polymère liant (A) comprenant un groupe carboxyle, un composé monofonctionnel photo-polymérisable (B) comprenant un groupe à insaturation éthylénique, un composé polyfonctionnel photo-polymérisable (C) comprenant un groupe à insaturation éthylénique, un composé de (méth)acrylate d'uréthanne (D), et un initiateur de photo-polymérisation (E), le composant (B) contenant un composé de (méth)acrylate représenté par la formule générale (1) ou un composé de (méth)acrylate représenté par la formule générale (2).
(JA)  本発明は、(A)カルボキシル基を有するバインダーポリマ、(B)エチレン性不飽和基を有する光重合性単官能化合物、(C)エチレン性不飽和基を有する光重合性多官能化合物、(D)ウレタン(メタ)アクリレート化合物及び(E)光重合開始剤を含有し、前記(B)成分が、一般式(1)で表される(メタ)アクリレート化合物又は一般式(2)で表される(メタ)アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)