WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014199991) COVER MEMBER, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING COVER MEMBER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/199991    International Application No.:    PCT/JP2014/065368
Publication Date: 18.12.2014 International Filing Date: 10.06.2014
IPC:
G02B 1/10 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Applicants: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP)
Inventors: IKEGAMI, Koji; (JP).
IMURA, Masaaki; (JP).
KANAI, Toshimasa; (JP).
FUKUI, Etsuji; (JP)
Agent: NAKAYAMA, Kazutoshi; (JP)
Priority Data:
2013-122290 11.06.2013 JP
Title (EN) COVER MEMBER, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING COVER MEMBER
(FR) ÉLÉMENT DE RECOUVREMENT, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT DE RECOUVREMENT
(JA) カバー部材、表示装置及びカバー部材の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a cover member having an antifouling film that is not susceptible to separation. A cover member (1) is provided with a base (10) and an antifouling film (20). The base (10) comprises a base main body (11) and a silicon oxide layer (12L1). The silicon oxide layer (12L1) is arranged on top of the base main body (11). The silicon oxide layer (12L1) constitutes the most surficial layer of the base (10). The antifouling film (20) is arranged on top of the silicon oxide layer (12L1). The antifouling film (20) contains a fluorine-containing polymer. The fluorine-containing polymer contains silicon in the main chain. The surface of the silicon oxide layer (12L1) has an arithmetic mean roughness (Ra) of 0.5 nm or less as determined according to JIS B0601-2001.
(FR)La présente invention concerne un élément de recouvrement comportant un film antisalissure qui ne présente pas de risque de séparation. Un élément de recouvrement (1) est pourvu d'une base (10) et d'un film antisalissure (20). La base (10) comprend un corps principal (11) de base et une couche d'oxyde de silicium (12L1). La couche d'oxyde de silicium (12L1) est disposée sur le corps principal (11) de base. La couche d'oxyde de silicium (12L1) constitue la couche la plus superficielle de la base (10). Le film antisalissure (20) est disposé sur la couche d'oxyde de silicium (12L1). Le film antisalissure (20) contient un polymère contenant du fluor. Le polymère contenant du fluor contient du silicium dans la chaîne principale. La surface de la couche d'oxyde de silicium (12L1) a une rugosité moyenne arithmétique (Ra) inférieure ou égale à 0,5 nm, telle que déterminée conformément à la norme JIS B0601-2001.
(JA) 防汚膜が剥離しにくいカバー部材を提供する。 カバー部材1は、基材10と、防汚膜20とを備える。基材10は、基材本体11と、酸化ケイ素層12L1とを有する。酸化ケイ素層12L1は、基材本体11の上に配されている。酸化ケイ素層12L1は、基材10の最表層を構成している。防汚膜20は、酸化ケイ素層12L1の上に配されている。防汚膜20は、含フッ素重合体を含む。含フッ素重合体は、主鎖中にケイ素を含む。酸化ケイ素層12L1の表面の表面粗さが、JIS B0601-2001で規定される算術平均粗さ(Ra)で0.5nm以下である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)