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1. (WO2014199744) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/199744    International Application No.:    PCT/JP2014/062180
Publication Date: 18.12.2014 International Filing Date: 02.05.2014
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/24 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
Inventors: KATO, Masaki; (JP)
Agent: SAKAI, Hiroaki; Sakai International Patent Office, Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Priority Data:
2013-126150 14.06.2013 JP
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 基板処理装置、デバイス製造方法及び露光方法
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides a substrate processing apparatus and a device manufacturing method capable of highly productively producing a high-quality substrate. The substrate processing apparatus and device manufacturing method are provided with a first support member for supporting one of a mask and a substrate along a first surface curved in the shape of a cylindrical surface with a prescribed curvature in one of an illumination area and a projection area, a second support member for supporting the other of the mask and the substrate along a prescribed second surface in the other of the illumination area and the projection area, and a movement mechanism for rotating the first support member to move, in a scanning exposure direction, either of the mask and the substrate supported by the first support member. A projection optical system projects, into the projection area, a beam having a best focus position included at two locations on the exposure surface of the substrate in the scanning exposure direction.
(FR) La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat et un procédé de fabrication de dispositif permettant une production à rendement élevé d'un substrat de haute qualité. L'appareil de traitement de substrat et le procédé de fabrication de dispositif font appel à un premier élément de support destiné à supporter un masque ou un substrat le long d'une première surface courbée sous la forme d'une surface cylindrique ayant une courbure prescrite dans une zone d'éclairement ou une zone de projection, à un second élément de support destiné à supporter l'autre du masque et du substrat le long d'une seconde surface prescrite dans l'autre de la zone d'éclairement et de la zone de projection, et à un mécanisme de mise en mouvement destiné à faire tourner le premier élément de support de façon à déplacer, dans une direction d'exposition de balayage, soit le masque soit le substrat supporté par le premier élément de support. Un système optique de projection projette, dans la zone de projection, un faisceau ayant la meilleure position de foyer comprise au niveau de deux positions sur la surface d'exposition du substrat dans la direction d'exposition de balayage.
(JA) 高い生産性で高い品質の基板を生産することができる基板処理装置及びデバイス製造方法を提供する。基板処理装置及びデバイス製造方法は、照明領域と投影領域とのうちの一方の領域において所定曲率で円筒面状に湾曲した第1面に沿うように、マスクと基板のうちの一方を支持する第1支持部材と、照明領域と投影領域とのうちの他方の領域において所定の第2面に沿うように、マスクと基板とのうちの他方を支持する第2支持部材と、第1支持部材を回転させ、該第1支持部材が支持するマスクと基板とのいずれかを走査露光方向に移動させる移動機構と、を備える。投影光学系は、基板の露光面において、ベストフォーカス位置が走査露光方向に2箇所含まれる光束を投影領域に投射する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)