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1. (WO2014198198) THREE-DIMENSIONAL GRATING ANTI-REFLECTION STRUCTURE AND COMPONENT
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Pub. No.: WO/2014/198198 International Application No.: PCT/CN2014/079335
Publication Date: 18.12.2014 International Filing Date: 06.06.2014
IPC:
G02B 1/118 (2015.01)
[IPC code unknown for G02B 1/118]
Applicants:
北京大学深圳研究生院 PEKING UNIVERSITY SHENZHEN GRADUATE SCHOOL [CN/CN]; 中国广东省深圳市 南山区西丽深圳大学城北大园区 Beida Zone, Shenzhen University Town, Xili Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518055, CN
Inventors:
张昭宇 ZHANG, Zhaoyu; CN
肖登 XIAO, Deng; CN
支晓婷 ZHI, Xiaoting; CN
苏光耀 SU, Guangyao; CN
刘传鸿 LIU, Chuanhong; CN
Agent:
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 DHC IP ATTORNEYS; 中国广东省深圳市 福田区金田路与福华路交汇处现代商务大厦2201 Suite 2201, Modern International Commercial Building Cross of Fuhua Road and Jintian Road Futian District Shenzhen, Guangdong 518048, CN
Priority Data:
201310233914.813.06.2013CN
Title (EN) THREE-DIMENSIONAL GRATING ANTI-REFLECTION STRUCTURE AND COMPONENT
(FR) STRUCTURE ET COMPOSANT ANTI-RÉFLEXION À RÉSEAU GRAVÉ TRIDIMENSIONNEL
(ZH) 三维光栅抗反射结构和元器件
Abstract:
(EN) A three-dimensional grating anti-reflection structure and component, comprising a substrate (2) having a first side, and a closely-arranged grating structure (1); the basic unit of the grating is divided into two portions, a first portion (101) exposed to the external environment, and a second portion (102) embedded in the substrate (2) from the first side thereof; a plurality of basic units are closely arranged to form a micro-nano structure array; the cross-sectional areas of both the first portion (101) and the second portion (102) of the basic unit parallel to the first side gradually decrease with the increase in the distance between the cross section and the first side; and the refractive index of the grating material is between the refractive index of the external environment and the refractive index of the substrate material. The three-dimensional grating closely arranged in a micro-nano structure array is embedded in the surface of the illumination layer of a micro-nano photoelectric component to form a functional coating of the three-dimensional grating anti-reflection structure, thus improving the transmittance of the incident light in a specific wavelength range of the micro-nano photoelectric component.
(FR) L'invention concerne une structure et un composant anti-réflexion à réseau gravé tridimensionnel, comprenant un substrat (2) avec un premier côté, et une structure de réseau gravé agencée étroitement (1) ; l'unité de base du réseau gravé est divisée en deux parties, une première partie (101) exposée à l'environnement extérieur, et une deuxième partie (102) intégrée dans le substrat (2) à partir du premier côté de celui-ci ; une pluralité d'unités de base est agencée étroitement pour former un réseau à micro-nano structure ; les aires de section transversale de la première partie (101) et de la deuxième partie (102) de l'unité de base parallèles au premier côté diminuent progressivement avec l'augmentation de la distance entre la section transversale et le premier côté ; et l'indice de réfraction du matériau de réseau gravé est entre l'indice de réfraction de l'environnement extérieur et l'indice de réfraction du matériau de substrat. Le réseau gravé tridimensionnel agencé étroitement en un réseau à micro-nano structure est intégré dans la surface de la couche d'éclairage d'un micro-nano composant photoélectrique pour former un revêtement fonctionnel de la structure anti-réflexion à réseau gravé tridimensionnel, ce qui améliore la transmittance de la lumière incidente dans une gamme de longueurs d'onde spécifique du micro-nano composant photoélectrique.
(ZH) 一种三维光栅抗反射结构和元器件,包括具有第一侧面基底(2)和一个密排光栅结构(1),光栅基本单元分为两部分,第一部分(101)露出在外界环境中,第二部分(102)从基底的第一侧面埋入基底(2),多个基本单元紧密排列成微纳结构阵列,基本单元的第一部分(101)的平行于第一侧面的截面的面积随截面到第一侧面的距离的逐渐增加而逐渐减小,基本单元的第二部分(102)的平行于第一侧面的截面的面积也随截面到第一侧面的距离的逐渐增加而逐渐减小,光栅材料的折射率介于外界环境和基底材料的折射率之间。通过在微纳光电元器件的光照层表面埋入紧密排列成微纳结构阵列的三维光栅,形成三维光栅抗反射结构功能涂层,可提高微纳光电元器件对特定波长范围入射光的透射率。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)