WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014198082) METHOD FOR DETECTING ETCHING RESIDUE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/198082    International Application No.:    PCT/CN2013/081147
Publication Date: 18.12.2014 International Filing Date: 09.08.2013
IPC:
G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01), G01N 21/35 (2014.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
BEIJING BOE DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No. 118 Jinghaiyilu, BDA Beijing 100176 (CN)
Inventors: WANG, Linlin; (CN).
CHEN, Xi; (CN).
WANG, Shoukun; (CN).
YUAN, Jianfeng; (CN)
Agent: DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; Maples International Center 10F, Bldg.2, No.32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082 (CN)
Priority Data:
201310233393.6 13.06.2013 CN
Title (EN) METHOD FOR DETECTING ETCHING RESIDUE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE RÉSIDU DE GRAVURE
(ZH) 一种检测刻蚀残留的方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to the technical field of displays. Disclosed is a method for detecting etching residue, capable of detecting the etching residue, thus improving good product rate. The method comprises: employing film color deviation to fit the boundary of a pattern at a position to be detected, and positioning the pattern at the position to be detected so as to acquire the pattern at the position to be detected (S101); conducting an infrared spectrum test on the pattern at the position to be detected to acquire an infrared spectrogram (S102); and determining whether residuale material exists according to the infrared spectrogram (S103). The present invention is used to detect etching residue during the preparation of an array substrate or a cell-aligned substrate.
(FR)L’invention a trait au domaine technique des affichages. L’invention concerne plus particulièrement un procédé de détection de résidu de gravure susceptible de détecter un résidu de gravure dans le but d’améliorer la capacité de production. Le procédé selon l’invention comprend les étapes consistant à : utiliser un écart de couleur de film pour ajuster le contour d’un motif dans une position à détecter, et placer le motif dans la position à détecter de manière à acquérir le motif dans la position à détecter (S101) ; soumettre le motif dans la position à détecter à une spectroscopie infrarouge dans le but d’obtenir un spectrogramme infrarouge (S102) ; et établir la présence ou non de matériau résiduel à partir du spectrogramme infrarouge (S103). L’invention sert à détecter un résidu de gravure lors de la préparation d’un substrat matriciel ou d’un substrat aligné sur cellule.
(ZH)一种检测刻蚀残留的方法,涉及显示技术领域,可实现检测刻蚀残留的目的,从而提高产品良率;该方法包括采用膜层色差拟合出待检测处的图案的边界,并对所述待检测处的图案进行定位,从而获取待检测处的图案(S101);对所述待检测处的图案进行红外光谱测试,得到红外光谱图(S102);根据所述红外光谱图,判断是否存在残留物质(S103)。用于制备阵列基板或对盒基板过程中刻蚀残留的检测。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)