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1. (WO2014197396) GAS DEPOSITION HEAD FOR SPATIAL ALD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/197396    International Application No.:    PCT/US2014/040557
Publication Date: 11.12.2014 International Filing Date: 02.06.2014
IPC:
C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: ULTRATECH, INC. [US/US]; 3050 Zanker Road San Jose, CA 95134 (US)
Inventors: SERSHEN, Michael, J.; (US).
LECORDIER, Laurent; (US)
Agent: JONES, Allston L.; (US)
Priority Data:
61/830,494 03.06.2013 US
Title (EN) GAS DEPOSITION HEAD FOR SPATIAL ALD
(FR) TÊTE DE DÉPÔT DE GAZ PERMETTANT UN DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES SPATIAL
Abstract: front page image
(EN)An improved spatial ALD coating apparatus more uniformly applies deposition material layers to all regions of a substrate coating surface. The device is configured with the spatial position of precursor nozzles sites offset from one another such that each precursor nozzle site directs process gas onto a different region of substrate.
(FR)La présente invention se rapporte à un appareil de revêtement par dépôt de couches atomiques spatial perfectionné qui applique de façon plus uniforme des couches de matériau de dépôt sur toutes les régions d'une surface de revêtement de substrat. Le dispositif est configuré avec la position spatiale des sites de buses de précurseur décalés les uns des autres de telle sorte que chaque site de buse de précurseur dirige un gaz de traitement sur une région différente du substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)