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1. (WO2014196377) SPUTTERING TARGET FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/196377    International Application No.:    PCT/JP2014/063676
Publication Date: 11.12.2014 International Filing Date: 23.05.2014
Chapter 2 Demand Filed:    07.08.2014    
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), B22F 3/00 (2006.01), B22F 3/14 (2006.01), C22C 1/05 (2006.01), C22C 5/04 (2006.01), C22C 32/00 (2006.01)
Applicants: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP)
Inventors: SATO Atsushi; (JP)
Agent: OGOSHI Isamu; OGOSHI International Patent Office, HATSUMEIKAIKAN 5F, 9-14, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2013-119818 06.06.2013 JP
Title (EN) SPUTTERING TARGET FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) 磁性記録媒体用スパッタリングターゲット
Abstract: front page image
(EN)A sintered sputtering target containing a Fe-Pt alloy and a non-magnetic material as the main components, said sintered sputtering target being characterized in that at least C (carbon) is contained as the non-magnetic material, an additional trace element other than the above-mentioned main components is contained in an amount of 50 to 5000 ppm by mass, and the standard free energy of formation (ΔG°) of the additional trace element per 1 mole of carbon in a carbide is -5000 [cal/mol] or less. The present invention addresses the problem of providing a sputtering target which undergoes the formation of particles in a greatly reduced amount upon sputtering and contains a Fe-Pt alloy and a non-magnetic material as the main components.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation frittée contenant un alliage de Fe-Pt et un matériau non magnétique comme constituants principaux, ladite cible de pulvérisation frittée étant caractérisée en ce qu'elle contient au moins du C (carbone) comme matériau non magnétique, un élément trace supplémentaire autre que les constituants principaux susmentionnés est contenu en une quantité de 50 à 5000 ppm en masse et l'énergie libre standard de formation (ΔG°) de l'élément trace supplémentaire par 1 mole de carbone dans un carbure est de -5000 [cal/mole] ou moins. La présente invention aborde le problème de la réalisation d'une cible de pulvérisation qui subit la formation de particules en une quantité fortement réduite lors de la pulvérisation et qui contient un alliage de Fe-Pt et un matériau non magnétique comme constituants principaux.
(JA)Fe-Pt合金と非磁性材料を主成分とする焼結体スパッタリングターゲットであって、非磁性材料として少なくともC(炭素)を含有し、さらに前記主成分以外に微量添加元素を50質量ppm~5000質量ppmの範囲で含有し、該微量添加元素の炭化物の炭素1mol当たりの標準生成自由エネルギーΔG°が、-5000[cal/mol]以下であることを特徴とする焼結体スパッタリングターゲット。本発明は、スパッタ時に発生するパーティクル量を大幅に低減させたFe-Pt合金と非磁性材料を主成分とするスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)