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1. (WO2014196137) ELEMENT STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/196137 International Application No.: PCT/JP2014/002661
Publication Date: 11.12.2014 International Filing Date: 21.05.2014
IPC:
H05B 33/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC.[JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
Inventors: OKA, Tadashi; JP
KATO, Yuko; JP
YAJIMA, Takahiro; JP
MATSUMOTO, Yousuke; JP
KANAI, Shouta; JP
MURATA, Yasuaki; JP
Agent: OMORI, Junichi; 2nd Floor U&M Akasaka Bldg., 7-5-47 Akasaka, Minato-ku, Tokyo 1070052, JP
Priority Data:
2013-12081407.06.2013JP
Title (EN) ELEMENT STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) STRUCTURE D'ÉLÉMENT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 素子構造体及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN) In order to provide an element structure capable of suppressing the penetration of oxygen, water, and the like into the interior of the element, and a method for producing the same, an element structure (10) according to one embodiment of the present invention is equipped with a substrate (2) (substrate base), a device layer (3), a first inorganic material layer (41) (convex section), and a first resin material (51). The substrate base (2) has a first surface (2a), and a second surface (2c) on the side opposite the first surface (2a). The device layer (3) is positioned on at least the first surface (2a) of the first and second surfaces (2a, 2c). The first inorganic material layer (41) is formed on the first surface (2a). The first resin material (51) is unevenly distributed around the periphery of the first inorganic material layer (41).
(FR) Afin de produire une structure d'élément pouvant supprimer la pénétration, d'oxygène, d'eau, et similaire à l'intérieur de l'élément, et son procédé de production, une structure (10) d'élément selon un mode de réalisation de la présente invention est équipée d'un substrat (2) (substrat de base), d'une couche de dispositif (3), d'une première couche de matériau inorganique (41) (section convexe) et d'un premier matériau de résine (51). Le substrat de base (2) a une première surface (2a) et une seconde surface (2c) du côté opposé à la première surface (2a). La couche de dispositif (3) est positionnée sur au moins la première surface (2a) parmi les première et seconde surfaces (2a, 2c). La première couche de matériau inorganique (41) est formée sur la première surface (2a). Le premier matériau de résine (51) est distribué de manière non uniforme autour de la périphérie de la première couche de matériau inorganique (41).
(JA)  素子内部への酸素、水分等の侵入を抑制することができる素子構造体及びその製造方法を提供するため、本発明の一実施形態に係る素子構造体10は、基板2(基体)と、デバイス層3と、第1の無機材料層41(凸部)と、第1の樹脂材51とを具備する。基体2は、第1の面2aと、第1の面2aとは反対側の第2の面2cとを有する。デバイス層3は、第1及び第2の面2a,2cのうち少なくとも第1の面2aに配置される。第1の無機材料層41は、第1の面2aに形成される。第1の樹脂材51は、第1の無機材料層41の周囲に偏在する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)