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1. (WO2014195980) DOPANT FEEDING DEVICE FOR DISPENSING DOPANT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/195980    International Application No.:    PCT/IT2013/000161
Publication Date: 11.12.2014 International Filing Date: 07.06.2013
IPC:
C30B 15/02 (2006.01)
Applicants: MEMC ELECTRONIC MATERIALS S.P.A. [IT/IT]; Viale Gherzi 31 I-28100 Novara (IT)
Inventors: DELL'AMICO, Gianni; (IT).
DELPERO, Ugo; (IT).
DIODA, Mauro; (IT).
HARINGER, Stephan; (IT)
Agent: FIORAVANTI, Corrado; c/o Jacobacci & Partners S.p.A. Corso Emilia, 8 I-10152 Torino (IT)
Priority Data:
Title (EN) DOPANT FEEDING DEVICE FOR DISPENSING DOPANT
(FR) DISPOSITIF D'ALIMENTATION DE DOPANT POUR LA DISTRIBUTION DE DOPANT
Abstract: front page image
(EN)A dopant feeding device for releasing dopant into a feeder system during doping of a crystal growing system includes a dopant container for holding the dopant, a lower valve, and an upper valve. The dopant container includes a wall defining a lower opening for releasing the dopant therethrough. The lower valve is positioned adjacent to the lower opening and is movable between a closed position that is in contact with the wall to prevent passage of dopant through the lower opening and an open position that is spaced from the lower opening to allow passage of dopant therethrough. The upper valve is positioned above and connected to the lower valve. The upper valve is disposed within the dopant container and is movable between a first position that is spaced from the dopant container and a second position that is in contact with the dopant container.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'alimentation de dopant pour distribuer un dopant dans un système d'alimentation pendant le dopage d'un système de croissance cristalline qui comprend un récipient de dopant pour maintenir le dopant, une vanne inférieure et une vanne supérieure. Le récipient de dopant comprend une paroi définissant une ouverture inférieure pour distribuer le dopant à travers celle-ci. La vanne inférieure est positionnée adjacente à l'ouverture inférieure et est mobile entre une position fermée qui est en contact avec la paroi pour empêcher le passage du dopant à travers l'ouverture inférieure et une position ouverte qui est espacée de l'ouverture inférieure pour permettre le passage du dopant à travers celle-ci. La vanne supérieure est positionnée au-dessus et reliée à la vanne inférieure. La vanne supérieure est disposée dans le récipient de dopant et est mobile entre une première position qui est espacée du récipient de dopant et une seconde position qui est en contact avec le récipient de dopant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)