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1. (WO2014193871) ABSOLUTE PHASE MEASUREMENT WITH SECONDARY PATTERN-EMBEDDED FRINGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/193871 International Application No.: PCT/US2014/039645
Publication Date: 04.12.2014 International Filing Date: 28.05.2014
Chapter 2 Demand Filed: 24.12.2014
IPC:
G06T 7/00 (2006.01)
Applicants: MICROSOFT TECHNOLOGY LICENSING, LLC[US/US]; One Microsoft Way Redmond, WA 98052, US
Inventors: XIONG, Zhiwei; US
WU, Feng; US
ZHANG, Yueyi; US
Priority Data:
13/907,42631.05.2013US
Title (EN) ABSOLUTE PHASE MEASUREMENT WITH SECONDARY PATTERN-EMBEDDED FRINGE
(FR) MESURE DE PHASE ABSOLUE AYANT UNE FRANGE A MOTIF SECONDAIRE INCORPORE
Abstract: front page image
(EN) Multiple images of a scene are captured while a phase-shifted fringe embedded with a secondary pattern is projected onto the scene. A wrapped phase map is generated based on the captured images, and a continuous region mask is determined to segment the wrapped phase map into multiple continuous regions. A period disparity of the fringe is determined for each region based at least in part on the embedded secondary pattern, and the regional period disparities are applied to a spatially unwrapped phase map to produce an absolute phase map and finally a depth map.
(FR) Selon l'invention, de multiples images d'une scène sont capturées pendant qu'une frange déphasée dans laquelle est incorporé un motif secondaire est projetée sur la scène. Une carte de phase repliée est générée sur la base des images capturées, et un masque de régions continues est déterminé pour segmenter la carte de phase repliée en de multiples régions continues. Une disparité de période de la frange est déterminée pour chaque région au moins en partie sur la base du motif secondaire incorporé, et les disparités de période régionales sont appliquées à une carte de phase spatialement dépliée afin de produire une carte de phase absolue et finalement une carte de profondeur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)