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1. (WO2014192700) GAS-BARRIER FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2014/192700 International Application No.: PCT/JP2014/063871
Publication Date: 04.12.2014 International Filing Date: 26.05.2014
IPC:
B32B 9/00 (2006.01) ,B05D 3/06 (2006.01) ,B05D 7/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01)
Applicants: KONICA MINOLTA, INC.[JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
Inventors: ITO, Hirohide; JP
Agent: HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
Priority Data:
2013-11213828.05.2013JP
Title (EN) GAS-BARRIER FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) FILM BARRIÈRE AU GAZ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a means whereby gas barrier capabilities, and endurance of gas barrier capabilities, of a gas barrier film may be further improved. [Solution] A gas barrier film having: a base material; a first barrier layer situated on at least one surface of the base material, having a film density of 1.5-2.1 c/m3, and containing an inorganic compound; and a second barrier layer formed on the surface of the base material on the same side where the first barrier layer is formed, and containing silicon atoms, oxygen atoms, and at least one added element from the group consisting of elements of Groups 2-14 of the long form of the periodic table (excluding silicon and carbon), the ratio (O/Si) of oxygen atoms to carbon atoms being 1.4-2.2, and the ratio (N/Si) of nitrogen atoms to carbon atoms being 0-0.4.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un moyen permettant d'améliorer encore les capacités de barrière au gaz, et l'endurance des capacités de barrière au gaz, d'un film barrière au gaz. La solution selon l’invention consiste en un film barrière au gaz possédant : un matériau de base ; une première couche barrière située sur au moins une surface du matériau de base, possédant une masse volumique de film de 1,5 à 2,1 g/m3, et contenant un composé inorganique ; et une seconde couche barrière formée sur la surface du matériau de base sur le même côté que l'endroit où est formée la première couche barrière, et contenant des atomes de silicium, des atomes d'oxygène, et au moins un élément ajouté dans le groupe constitué des éléments des groupes 2 à 14 de la forme longue du tableau périodique (à l'exclusion de silicium et carbone), le rapport (O/Si) d'atomes d'oxygène sur atomes de carbone allant de 1,4 à 2,2, et le rapport (N/Si) d'atomes d'azote sur atomes de carbone allant de 0 à 0,4.
(JA) 【課題】ガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア性能およびガスバリア性能の耐久性をよりいっそう向上させうる手段を提供する。 【解決手段】基材と、前記基材の少なくとも一方の面に配置された、膜密度が1.5~2.1g/cmであり無機化合物を含む第1のバリア層と、前記基材の、前記第1のバリア層が形成されているのと同じ側の面に形成された、長周期型周期表の第2~14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種(ただし、ケイ素および炭素を除く)の添加元素、ケイ素原子および酸素原子を含有し、かつケイ素原子に対する酸素原子の存在比(O/Si)が1.4~2.2であり、ケイ素原子に対する窒素原子の存在比(N/Si)が0~0.4である第2のバリア層とを有する、ガスバリア性フィルム。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)