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1. (WO2014192628) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/192628    International Application No.:    PCT/JP2014/063574
Publication Date: 04.12.2014 International Filing Date: 22.05.2014
IPC:
H05B 33/10 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 51/46 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01)
Applicants: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventors: SUEMATSU, Takatoshi; (JP).
MATSUMURA, Toshiyuki; (JP)
Agent: KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Priority Data:
2013-115701 31.05.2013 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE ÉLECTRODE TRANSPARENTE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ORGANIQUE
(JA) 透明電極の製造方法及び有機電子デバイス
Abstract: front page image
(EN)The objective of the present invention is to provide a method for producing a transparent electrode, which is capable of suppressing deformation of a transparent resin substrate and deterioration of a gas barrier layer, and is also capable of highly drying a porous layer and a surface electrode-forming layer that are formed on the transparent resin substrate by coating. A method for producing a transparent electrode (10) according to the present invention is characterized by comprising: [1] a porous layer formation step wherein a porous layer (4) is formed by applying a dispersion liquid for porous layer formation, which contains at least metal oxide fine particles, onto a transparent resin substrate (2) and by drying the dispersion liquid thereon; [2] a surface electrode-forming layer formation step wherein a surface electrode-forming layer (8) is formed by applying a coating liquid for surface electrode-forming layer formation, which contains at least a conductive polymer and a polar solvent containing a hydroxy group, onto the porous layer (4); and [3] a drying step wherein the porous layer (4) and the surface electrode-forming layer (8) are dried using an infrared heater (60) that has a light source having a filament temperature within the range of 1,600-3,000°C after the surface electrode-forming layer formation step.
(FR)L'objet de la présente invention est de fournir un procédé de production d'une électrode transparente, permettant de supprimer une déformation d'un substrat transparent en résine et une détérioration d'une couche barrière contre les gaz, et permettant également de mettre en œuvre un séchage intense d'une couche poreuse et d'une couche de formation d'électrode de surface formées sur le substrat transparent en résine par revêtement. Un procédé de production d'une électrode transparente (10) selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend : [1] une étape de formation de couche poreuse au cours de laquelle une couche poreuse (4) est formée par application d'un liquide de dispersion pour la formation d'une couche poreuse, qui contient au moins de fines particules d'oxyde de métal, sur un substrat transparent en résine (2) et par séchage du liquide dispersé sur ce dernier ; [2] une étape de formation de couche de formation d'électrode de surface au cours de laquelle une couche de formation d'électrode de surface (8) est formée par application d'un liquide de revêtement pour la formation de la couche de formation d'électrode de surface, laquelle contient au moins un polymère conducteur et un solvant polaire contenant un groupe hydroxy, sur la couche poreuse (4) ; et [3] une étape de séchage au cours de laquelle la couche poreuse (4) et la couche de formation d'électrode de surface (8) sont séchées au moyen d'un radiateur à infrarouge (60) comprenant une source de lumière présentant une température de filament dans la plage de 1 600-3 000 °C après l'étape de formation de couche de formation d'électrode de surface.
(JA) 本発明の課題は、透明樹脂基板の変形及びガスバリアー層の劣化を抑制し、透明樹脂基板上に塗布形成した多孔質層と面電極化層とを高度に乾燥することができる透明電極の製造方法を提供することである。 本発明の透明電極10の製造方法は、 (1)透明樹脂基板2上に、少なくとも金属酸化物微粒子を含有する多孔質層形成用分散液を塗布し、乾燥して、多孔質層4を形成する多孔質層形成工程と、 (2)前記多孔質層4上に、少なくともヒドロキシ基を含有する極性溶媒と導電性ポリマーとを含有する面電極化層形成用塗布液を塗布し、面電極化層8を形成する面電極化層形成工程と、 (3)前記面電極化層形成工程後に、前記多孔質層4と前記面電極化層8を光源のフィラメント温度が1600~3000℃の範囲内にある赤外線ヒーター60を用いて乾燥する乾燥工程と、 を有することを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)