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1. (WO2014192476) FILTRATION DEVICE, AND FILTRATION METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/192476    International Application No.:    PCT/JP2014/061646
Publication Date: 04.12.2014 International Filing Date: 25.04.2014
IPC:
C02F 1/44 (2006.01), B01D 65/08 (2006.01), C02F 3/12 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES,LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Inventors: TANAKA, Hiromu; (JP).
MORITA, Toru; (JP)
Agent: NAKATA, Motomi; c/o Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-shi, Osaka 5540024 (JP)
Priority Data:
2013-114574 30.05.2013 JP
Title (EN) FILTRATION DEVICE, AND FILTRATION METHOD USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE FILTRATION, ET PROCÉDÉ DE FILTRATION L'UTILISANT
(JA) 濾過装置及びこれを用いた濾過方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a filtration device which is equipped with: a filtration vessel in which a microorganism-containing solution to be treated is stored; an immersion-type filtration module which is arranged in the filtration vessel and has multiple separation membranes; and a first gas supply unit by which air bubbles for washing the separation membranes can be generated from beneath the immersion-type filtration module. The filtration device is additionally provided with a second gas supply unit which is arranged below the filtration vessel apart from the first gas supply unit and by which air bubbles for supplying oxygen can be generated. In the filtration device, air bubbles are generated by the first gas supply unit to form an air bubble rising-prevented zone above the second gas supply unit. It is preferred that the air bubble rising-prevented zone has a downward flow of the solution to be treated. Alternatively, the air bubble rising-prevented zone may have a disturbed flow of the solution to be treated.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de filtration équipé de : un récipient de filtration dans lequel une solution contenant un microorganisme à traiter est stocké ; un module de filtration type immersion qui est disposé dans le récipient de filtration et qui possède de multiples membranes de séparation ; et une première unité d'alimentation en gaz par laquelle des bulles d'air peuvent être produites pour laver les membranes de séparation depuis la partie inférieure du module de filtration de type immersion. Le dispositif de filtration est de plus muni d'une seconde unité d'alimentation en gaz qui est placée en-dessous du récipient de filtration, séparément de la première unité d'alimentation en gaz, et par laquelle des bulles d'air d'alimentation en oxygène peuvent être produites. Dans le dispositif de filtration, des bulles d'air sont produites par la première unité d'alimentation en gaz pour former une zone exempte de montée de bulles d'air au-dessus de la seconde unité d'alimentation en gaz. Il est de préférence que la zone exempte de montée de bulles d'air présente un écoulement descendant de la solution à traiter. En variante, la zone exempte de montée de bulles d'air peut présenter un flux perturbé de la solution à traiter.
(JA)本発明は、微生物を含む被処理液を貯留する濾過槽と、この濾過槽内に配設され、複数の分離膜を有する浸漬式濾過モジュールと、この浸漬式濾過モジュールの下方から分離膜洗浄用気泡を発生する第一気体供給器とを備える濾過装置であって、上記濾過槽の下方に上記第一気体供給器と離間して配置され、酸素供給用気泡を発生する第二気体供給器をさらに備え、上記第一気体供給器の気泡発生により第二気体供給器の上方に気泡上昇抑制領域を形成する濾過装置である。上記気泡上昇抑制領域に被処理液の下降流が存在するとよい。上記気泡上昇抑制領域に被処理液の乱流が存在していてもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)