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1. (WO2014190702) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND DISPLAY DEVICE
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Pub. No.: WO/2014/190702 International Application No.: PCT/CN2013/088347
Publication Date: 04.12.2014 International Filing Date: 02.12.2013
IPC:
G02F 1/1362 (2006.01)
G PHYSICS
02
OPTICS
F
DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1
Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01
for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
13
based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133
Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
136
Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
1362
Active matrix addressed cells
Applicants:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Inventors:
崔承镇 CHOI, Seungjin; CN
金熙哲 KIM, Heecheol; CN
宋泳锡 SONG, Youngsuk; CN
刘圣烈 YOO, Seongyeol; CN
Agent:
北京市柳沈律师事务所 LIU, SHEN & ASSOCIATES; 中国北京市海淀区彩和坊路10号1号楼10层 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Priority Data:
201310209814.130.05.2013CN
Title (EN) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制作方法、显示装置
Abstract:
(EN) An array substrate and a manufacturing method therefor, and a display device. The array substrate comprises a base substrate (11), a gate line and a data line that are formed on the base substrate (11), and a pixel area defined by an intersection of the gate line and the data line. The pixel area comprises a thin-film transistor. The thin-film transistor comprises a gate electrode, a gate insulating layer, an active layer, a source electrode, and a drain electrode. The pixel area also comprises: at least one groove (110) formed on the surface of the base substrate (11); a first electrode layer (12) comprising at least one first electrode strip (120), where the first electrode strip (120) is arranged within the groove (110) and is electrically connected to each other; and, a second electrode layer (13) comprising at least one second electrode strip (130), where the second electrode strip (130) is arranged outside of the groove (110) and is electrically connected to each other. This allows for implementation of zero overlap between a common electrode and a pixel electrode, thus increasing the display quality of the display device.
(FR) L'invention concerne un substrat de matrice et un procédé de fabrication associé, et un dispositif d'affichage. Le substrat de matrice comprend un substrat de base (11), une ligne de grille et une ligne de données qui sont formées sur le substrat de base (11), et une zone de pixels définie par une intersection de la ligne de grille et de la ligne de données. La zone de pixels comprend un transistor en couches minces. Le transistor en couches minces comprend une électrode de grille, une couche d'isolation de grille, une couche active, une électrode de source et une électrode de drain. La zone de pixels comprend également : au moins une gorge (110) formée sur la surface du substrat de base (11) ; une première couche d'électrodes (12) comprenant au moins une première bande d'électrodes (120), la première bande d'électrodes (120) étant disposée à l'intérieur de la gorge (110) et étant connectée électriquement avec elle ; et, une seconde couche d'électrodes (13) comprenant au moins une seconde bande d'électrodes (130), la seconde bande d'électrodes (130) étant disposée à l'extérieur de la gorge (110) et étant connectée électriquement avec elle. Ceci permet la mise en œuvre d'un chevauchement nul entre une électrode commune et une électrode de pixel, améliorant ainsi la qualité d'affichage du dispositif d'affichage.
(ZH) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置。阵列基板包括衬底基板(11)、形成在衬底基板(11)上的栅线、数据线以及通过栅线和数据线交叉限定的像素区域,像素区域包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括栅极、栅绝缘层、有源层、源极以及漏极,像素区域还包括:至少一个凹槽(110),形成在衬底基板(11)的表面上;第一电极层(12),包括至少一个第一电极条(120),第一电极条(120)设置在凹槽(110)内且彼此电连接;第二电极层(13),包括至少一个第二电极条(130),第二电极条(130)设置在凹槽(110)外且彼此电连接。可以实现公共电极和像素电极之间的零重叠,从而提高显示装置的显示质量。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)