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1. (WO2014189853) METROLOGY SYSTEM OPTIMIZATION FOR PARAMETER TRACKING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/189853    International Application No.:    PCT/US2014/038643
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 19.05.2014
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive, Milpitas Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: VELDMAN, Andrei; (US).
SHCHEGROV, Andrei V.; (US).
BRADY, Gregory; (US).
DZIURA, Thaddeus Gerard; (US).
PANDEV, Stilian; (US).
KUZNETSOV, Alexander; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US)
Priority Data:
61/825,814 21.05.2013 US
14/278,224 15.05.2014 US
Title (EN) METROLOGY SYSTEM OPTIMIZATION FOR PARAMETER TRACKING
(FR) OPTIMISATION D'UN SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR LE SUIVI DE PARAMÈTRES
Abstract: front page image
(EN)Methods and systems for evaluating the capability of a measurement system to track measurement parameters through a given process window are presented herein. Performance evaluations include random perturbations, systematic perturbations, or both to effectively characterize the impact of model errors, metrology system imperfections, and calibration errors, among others. In some examples, metrology target parameters are pre-determined as part of a Design of Experiments (DOE). Estimated values of the metrology target parameters are compared to the known DOE parameter values to determine the tracking capability of the particular measurement. In some examples, the measurement model is parameterized by principal components to reduce the number of degrees of freedom of the measurement model. In addition, exemplary methods and systems for optimizing the measurement capability of semiconductor metrology systems for metrology applications subject to process variations are presented.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des systèmes permettant d'évaluer la capacité d'un système de mesure à suivre des paramètres de mesure à travers une fenêtre de processus donnée. Des évaluations de performance comprennent des perturbations aléatoires, des perturbations systématiques, ou les deux pour caractériser efficacement l'impact d'erreurs de modèles, d'imperfections du système de métrologie et des erreurs d'étalonnage, entre autres. Dans certains exemples, des paramètres cibles de métrologie sont préétablis comme faisant partie d'une conception d'expériences (DOE). Des valeurs estimées des paramètres cibles de métrologie sont comparés aux valeurs des paramètres DOE connues pour déterminer la capacité de suivi de la mesure particulière. Dans certains exemples, le modèle de mesure est paramétré par des composantes principales pour réduire le nombre de degrés de liberté du modèle de mesure. De plus, l'invention concerne des procédés et des systèmes permettant d'optimiser la capacité de mesure de systèmes de métrologie semi-conducteurs pour des applications de métrologies sujettes à des variations de processus.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)