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1. (WO2014189626) SHUNT TREATMENT IN INVERTED AND WAFER BONDED SOLAR CELLS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/189626    International Application No.:    PCT/US2014/033681
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 10.04.2014
IPC:
H01L 31/0687 (2012.01), H01L 31/18 (2006.01)
Applicants: THE BOEING COMPANY [US/US]; 100 North Riverside Plaza Chicago, Illinois 60606-2016 (US)
Inventors: CHIU, Philip; (US).
MESROPIAN, Shoghig; (US).
KRUT, Dimitri D.; (US)
Agent: LEPORE, John A.; The Boeing Company P.O. Box 2515 MC 110-SD54 Seal Beach, California 90740-1515 (US)
Priority Data:
13/901,774 24.05.2013 US
Title (EN) SHUNT TREATMENT IN INVERTED AND WAFER BONDED SOLAR CELLS
(FR) TRAITEMENT DE DÉRIVATIONS DANS DES CELLULES SOLAIRES INVERSÉES ET SOUDÉES À DES PLAQUETTES
Abstract: front page image
(EN)Provided are methods and systems for treating shunts on solar cell substrates. Also provided are solar cells including such substrates. A shunt detected on a substrate proximate to a metallized grid pattern (404) is electrically disconnected from at least the bus portion of the grid, which reduces shunt's impact on performance on the solar cell. An antireflective layer may be disposed between the shunt and a portion of the grid extending over the shunt. The exposure pattern (402) of a photoresist used to form the antireflective layer may be adjusted accordingly to achieve this result. In some embodiments, the metallized grid may be modified by adjusting the exposure pattern (404) of a photoresist used to form this grid. The grid may be modified to avoid any contact between the grid and the shunt or to disconnect a portion of the grid contacting the shunt from the bus portion area of the grid.
(FR)L'invention concerne des procédés et des systèmes permettant de traiter les dérivations sur des substrats de cellules solaires. L'invention concerne aussi des cellules solaires comprenant de tels substrats. Une dérivation détectée sur un substrat à proximité d'un motif de réseau métallisé (404) est électriquement déconnectée d'au moins la partie de bus du réseau, ce qui réduit l'impact de la dérivation sur la performance de la cellule solaire. Une couche antireflet peut être disposée entre la dérivation et une partie du réseau s'étendant au-dessus de la dérivation. Le motif d'exposition (402) d'un enduit photorésistant utilisé pour former la couche antireflet peut être ajusté en conséquence pour obtenir ce résultat. Dans certains modes de réalisation, le réseau métallisé peut être modifié en ajustant le motif d'exposition (404) d'un enduit photorésistant utilisé pour former ce réseau. Le réseau peut être modifié pour éviter tout contact entre le réseau et la dérivation ou pour déconnecter une partie du réseau en contact avec la dérivation de la zone de la partie de bus du réseau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)