WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2014189004) MASK BLANK, TRANSFER MASK AND METHOD FOR PRODUCING TRANSFER MASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2014/189004    International Application No.:    PCT/JP2014/063222
Publication Date: 27.11.2014 International Filing Date: 19.05.2014
IPC:
G03F 1/32 (2012.01), G03F 1/00 (2012.01), G03F 7/24 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP)
Inventors: SHISHIDO, Hiroaki; (JP).
NOZAWA, Osamu; (JP).
OHKUBO, Ryo; (JP)
Agent: IKEDA, Noriyasu; Hibiya Daibiru Bldg., 2-2, Uchisaiwaicho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP)
Priority Data:
2013-109386 23.05.2013 JP
Title (EN) MASK BLANK, TRANSFER MASK AND METHOD FOR PRODUCING TRANSFER MASK
(FR) EBAUCHE DE MASQUE, MASQUE DE TRANSFERT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE TRANSFERT
(JA) マスクブランクおよび転写用マスク並びにそれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)A mask blank which has a structure wherein a semi-light-transmitting film and a light blocking film are laminated on a main surface of a light-transmitting substrate, and which is characterized in that: the semi-light-transmitting film is formed of a material that can be dry etched by an etching gas that contains a fluorine-based gas; the light blocking film is formed of a material that contains tantalum and hafnium and/or zirconium but does not contain oxygen in portions other than the surface layer; an etching stopper film is provided between the semi-light-transmitting film and the light blocking film; and the etching stopper film is formed of a material that contains chromium with an oxygen content of 20% by atom or less.
(FR)La présente invention concerne une ébauche de masque qui présente une structure dans laquelle un film de semi-transmission de la lumière et un film de blocage de la lumière sont stratifiés sur une surface principale d'un substrat de transmission de la lumière ; et qui est caractérisée en ce que : le film de semi-transmission de la lumière est constitué d'un matériau qui peut être soumis à une gravure sèche par un gaz de gravure contenant un gaz fluoré ; le film de blocage de la lumière est constitué d'un matériau qui contient du tantale et de l'hafnium et/ou du zirconium, mais qui ne contient pas d'oxygène dans des parties autres que la couche de surface ; un film d'arrêt de gravure est disposé entre le film de semi-transmission de la lumière et le film de blocage de la lumière ; et le film d'arrêt de gravure est constitué d'un matériau qui contient du chrome avec une teneur en oxygène inférieure ou égale à 20 % en atome.
(JA) 透光性基板の主表面上に光半透過膜と遮光膜が積層した構造を有するマスクブランクであって、光半透過膜は、フッ素系ガスを含有するエッチングガスでのドライエッチングが可能な材料で形成され、遮光膜は、ハフニウムおよびジルコニウムから選ばれる1以上の元素とタンタルとを含有し、かつその表層を除いて酸素を含有しない材料で形成され、光半透過膜と遮光膜の間にエッチングストッパー膜が設けられ、エッチングストッパー膜は、クロムを含有し、かつ酸素の含有量が20原子%以下である材料で形成されていることを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)